[发明专利]有机EL用掩模清洁装置及方法

权利要求书

1.一种有机EL用掩模清洁装置，用于去除附着在有机EL用掩模上的蒸镀物质，其特征在于，具有：

激光机构，对上述有机EL用掩模的蒸镀面以朝上的方式配置的该蒸镀面照射激光，使得将上述蒸镀物质破碎而产生的游离生成物向上方飞散；

空气流形成机构，在离开上述有机EL用掩模的表面的位置形成空气流，该空气流以沿着该表面的方式运送游离生成物；以及

第2空气流形成机构，从有机EL用掩模的背面侧，经由设置于该有机EL用掩模的开口部，朝向形成于上述有机EL用掩模的表面和上述空气流之间的无风区域，形成上升空气流。

2.如权利要求1所述的有机EL用掩模清洁装置，其特征在于，上述空气流形成机构具有吸引机构，该吸引机构设在从上述有机EL用掩模离开为了形成层流状态的上述空气流所需的间隔的位置。

3.如权利要求2所述的有机EL用掩模清洁装置，其特征在于，上述空气流形成机构具有向上述吸引机构送风的送风机构。

4.如权利要求1所述的有机EL用掩模清洁装置，其特征在于，具有等离子清洗机构，该等离子清洗机构设在上述激光机构的后段侧，等离子清洗附着在上述有机EL用掩模的表面上的游离生成物。

5.一种有机EL用掩模清洁方法，将附着在有机EL用掩模上的蒸镀物质去除，其特征在于，

将上述有机EL用掩模的蒸镀面朝上配置，一边对该蒸镀面照射激光，一边使上述有机EL用掩模和激光之间相对移动，从而将上述蒸镀物质破碎；

使上升空气流从上述有机EL用掩模的背面侧经由开口流动，从而使上述被破碎的蒸镀物质上升；

在离开上述有机EL用掩模的表面的位置形成沿着该表面的空气流，将上述上升空气流所作用的游离生成物以沿着有机EL用掩模的表面的方式运送。