[发明专利]触控面板、导电薄膜及其制作方法在审
| 申请号: | 201310331995.5 | 申请日: | 2013-08-01 |
| 公开(公告)号: | CN104345942A | 公开(公告)日: | 2015-02-11 |
| 发明(设计)人: | 郭义鹏 | 申请(专利权)人: | 恒颢科技股份有限公司 |
| 主分类号: | G06F3/041 | 分类号: | G06F3/041;G06F3/044 |
| 代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人: | 寿宁;张华辉 |
| 地址: | 中国台湾*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 面板 导电 薄膜 及其 制作方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种导电薄膜,特别是涉及一种利用混合纳米导电金属与感光性材料来形成的导电薄膜,及此导电薄膜的制作方法与应用此导电薄膜的触控面板。
背景技术
现今许多的电子装置均具备有显示以及触控的功能,也因此触控面板的技术也不断的推陈出新。触控面板,如电容式触控面板等,均需要用一层导电薄膜来做为触控面板的触控感测区域。而现有习知技术的导电薄膜常需要利用金属氧化物或纳米导电金属的金属层及感光材料并通过黄光工艺将金属层图案化以形成导电薄膜所需要的图案。
请参阅图1所示,是现有习知技术的导电薄膜的制造方法的示意图。传统的制造方法所利用的黄光工艺需要借由曝光机所产生的紫外线(UV)光源将光罩上的图案转移至正型或负型光阻上,光阻的型式决定图案化的结果,经显影后,光阻的图案会和光罩完全相同或和光罩呈互补。
如图所示,传统的制造方法所利用的黄光工艺在覆盖光阻层后还需要经过包含曝光、显影、蚀刻及剥膜等程序,经图案化后的金属层则可做为导电薄膜。然而,由上述可知,现有习知技术的导电薄膜的制造方法所利用的黄光工艺需要经多道步骤,才能将金属层图案化为所需要的图案,也因此提高了产品完成所需要的时间,除此之外,过于繁琐的步骤也会直接增加制造产品所需要的成本。
中国台湾专利公开号第201145309号也揭示了一种触控面板,此触控面板是利用混有金属丝段的透明胶体(或溶液)涂布于一可挠性基板上,并待其干涸以形成金属丝段交织而成的导电薄膜,之后需再将金属丝段交织的导电薄膜图案化以产生所需要的图案。然而,此导电薄膜在图案化的过程中仍然需要经过蚀刻及剥膜的步骤,因此其制造产品所需要的时间及成本仍然无法有效地降低。
因此,如何提出一种导电薄膜,能够有效改善现有习知技术的导电薄膜的制造方法需要过多的步骤,导致制造产品所需的时间及成本过高的情况已成为一个刻不容缓的问题。
发明内容
有鉴于上述现有习知技技术存在的问题,本发明的目的在于提供一种新的导电薄膜及其制作方法与应用此导电薄膜的触控面板,所要解决的技术问题是使其可以解决现有习知技术的导电薄膜的制造方法由于需要过多的步骤而导致制造产品所需要的时间及成本过高的问题,非常适于实用。
本发明的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。依据本发明提出的一种导电薄膜,是可设置于基板上,以形成触控感测区域,其中,可将纳米导电金属均匀散布至正型或负型的感光性材料中以形成混合物,再将此混合物涂布于基板上以形成湿膜,再经由黄光曝光及显影步骤将湿膜图案化以形成导电薄膜。
本发明的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一步实现。
前述的导电薄膜,其中所述的纳米导电金属可为纳米银。
前述的导电薄膜,其中所述的感光性材料可为光阻。
前述的导电薄膜,其中所述的感光性材料可为液态或胶态。
前述的导电薄膜,其中所述的导电薄膜可用于触控面板或触控板。
前述的导电薄膜,其中所述的导电薄膜的线宽可小于10um。
前述的导电薄膜,其中所述的湿膜的厚度可小于1um。
前述的导电薄膜,其中所述的导电薄膜的厚度小于4um时能够达到灰阶的结果。
本发明的目的及解决其技术问题还采用以下技术方案来实现。依据本发明提出的一种导电薄膜的制作方法,此方法可包含下列步骤:提供基板;将纳米导电金属均匀散布至正型或负型的感光性材料中以形成混合物;将混合物涂布于基板上以形成湿膜;以及经由黄光曝光及显影步骤将湿膜图案化以形成导电薄膜。
本发明的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一步实现。
前述的导电薄膜的制作方法,其中所述的纳米导电金属可为纳米银。
前述的导电薄膜的制作方法,其中所述的感光性材料可为光阻。
前述的导电薄膜的制作方法,其中所述的感光性材料可为液态或胶态。
前述的导电薄膜的制作方法,其中所述的导电薄膜可用于触控面板或触控板。
前述的导电薄膜的制作方法,其中所述的导电薄膜的线宽可小于10um。
前述的导电薄膜的制作方法,其中所述的湿膜的厚度可小于1um。
前述的导电薄膜的制作方法,其中所述的导电薄膜的厚度小于4um时能够达到灰阶的结果。
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