[发明专利]触控面板、导电薄膜及其制作方法

权利要求书

1.一种导电薄膜，其特征在于，其是设置于基板上，以形成触控感测区域，其中，将纳米导电金属均匀散布至正型或负型的感光性材料中以形成混合物，再将该混合物涂布于该基板上以形成湿膜，再经由黄光曝光及显影步骤将该湿膜图案化以形成该导电薄膜。

2.根据权利要求1所述的导电薄膜，其特征在于其中该纳米导电金属为纳米银。

3.根据权利要求2所述的导电薄膜，其特征在于其中该感光性材料为光阻。

4.根据权利要求3所述的导电薄膜，其特征在于其中该感光性材料为液态或胶态。

5.根据权利要求3所述的导电薄膜，其特征在于其中该导电薄膜是用于触控面板或触控板。

6.根据权利要求3所述的导电薄膜，其特征在于其中该导电薄膜的线宽小于10um。

7.根据权利要求3所述的导电薄膜，其特征在于其中该湿膜的厚度小于1um。

8.根据权利要求3所述的导电薄膜，其特征在于其中该导电薄膜的厚度小于4um时能够达到灰阶的结果。

9.一种导电薄膜的制作方法，其特征在于其包括以下步骤：

提供基板；

将纳米导电金属均匀散布至正型或负型的感光性材料中以形成混合物；

将该混合物涂布于该基板上以形成湿膜；以及

经由黄光曝光及显影步骤将该湿膜图案化以形成该导电薄膜。

10.根据权利要求9所述的导电薄膜的制作方法，其特征在于其中该纳米导电金属为纳米银。

11.根据权利要求10所述的导电薄膜的制作方法，其特征在于其中该感光性材料为光阻。

12.根据权利要求11所述的导电薄膜的制作方法，其特征在于其中该感光性材料为液态或胶态。

13.根据权利要求11所述的导电薄膜的制作方法，其特征在于其中该导电薄膜是用于触控面板或触控板。

14.根据权利要求11所述的导电薄膜的制作方法，其特征在于其中该导电薄膜的线宽小于10um。

15.根据权利要求11所述的导电薄膜的制作方法，其特征在于其中该湿膜的厚度小于1um。

16.根据权利要求11所述的导电薄膜的制作方法，其特征在于其中该导电薄膜的厚度小于4um时能够达到灰阶的结果。

17.一种触控面板，其特征在于，其包含基板以及导电薄膜，该导电薄膜设置于该基板上，以形成触控感测区域，其中该导电薄膜是根据权利要求1至8中任一权利要求所述的导电薄膜。