[发明专利]高清晰度激光直接雕刻凹印版的制作方法无效

专利信息
申请号: 201310327466.8 申请日: 2013-07-31
公开(公告)号: CN103395277A 公开(公告)日: 2013-11-20
发明(设计)人: 罗宗宏 申请(专利权)人: 汕头市精工东捷制版有限公司
主分类号: B41C1/05 分类号: B41C1/05;B41N1/06
代理公司: 汕头市高科专利事务所 44103 代理人: 王少明
地址: 515000 广东省汕头*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 清晰度 激光 直接 雕刻 凹印版 制作方法
【权利要求书】:

1.一种高清晰度激光直接雕刻凹印版的制作方法,包括制作基版,基版上镀铜,其特征在于,在镀铜基版上镀锌,将锌层抛光处理后,进行激光雕刻形成凹坑,雕刻后对版面进行抛光,用重量浓度5-15%硝酸清洗后,在镀锌层上进行镀铬。

2.根据权利要求1所述方法,其特征在于,所述硝酸清洗后的版面还用0.05-0.2wt%的烷基酚聚氧乙烯醚、0.1-0.3wt%的氨基磺酸和余量的水组成的清洗液再次清洗5-10分钟。

3.根据权利要求1或2所述方法,其特征在于,所述镀锌层中,文字和线条图文的边缘形成10-40微米宽度的由半圆形凹坑组成的线条凹坑。

4.根据权利要求1或2所述方法,其特征在于,所述镀铜层厚度为200-300微米。

5.根据权利要求1或2所述方法,其特征在于,所述镀锌层厚度为30-200微米。

6.根据权利要求5所述方法,其特征在于,所述镀锌层厚度为80-150微米。

7.根据权利要求1或2所述方法,其特征在于,所述镀铬层厚度为5-30微米。

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