[发明专利]一种TFT阵列基板有效

专利信息
申请号: 201310326789.5 申请日: 2013-07-30
公开(公告)号: CN103943627B 公开(公告)日: 2017-06-06
发明(设计)人: 王艳丽;简守甫 申请(专利权)人: 上海中航光电子有限公司;天马微电子股份有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77;G02F1/1362;G02F1/1368
代理公司: 北京品源专利代理有限公司11332 代理人: 孟金喆
地址: 201108 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: tft 阵列 及其 制造 方法 显示装置
【说明书】:

技术领域

发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种TFT阵列基板及其制造方法、和包括该TFT阵列基板的显示装置。

背景技术

目前,平板显示器,如LCD(Liquid Crystal Display),由于其具有体积小、重量轻、厚度薄、功耗低、无辐射等特点,在当前的平板显示器市场中占据了主导地位。在成像过程中,LCD平板显示器中每一液晶像素点都由集成在TFT阵列基板中的薄膜晶体管(Thin Film Transistor,简称TFT)来驱动,再配合外围驱动电路,实现图像显示,TFT是控制发光的开关,是实现液晶显示器和OLED显示器大尺寸的关键,直接关系到高性能平板显示器的发展方向。随着对产品的分辨率要求越来越高,在TFT基板结构中,如何降低共用电极线信号(公共信号)延迟,减少闪烁(Flicker)不均和串扰(Crosstalk)的同时,又不降低开口率,提高显示品质,成为了本领域技术人员亟待解决的问题。

发明内容

有鉴于此,本发明提供一种TFT阵列基板及其制造方法和包含该TFT阵列基板的显示装置。

一种TFT阵列基板,包括显示区和非显示区,所述显示区包括:第一金属层,其包括第一共用电极线;以及第二金属层,其包括第二共用电极线;所述非显示区包括第三共用电极线,所述第三共用电极线至少与所述第一、二共用电极线其中之一电性连接。

相应的,本发明还提供一种制造上述TFT阵列基板的方法,包括:在显示区形成第一金属层,其包括第一共用电极线;在第一金属层之上形成第二金属层,其包括第二共用电极线;以及在非显示区形成第三共用电极线。

相应的,本发明还提供一种显示装置,包括:如上所述的TFT阵列基板;以及彩膜基板,与所述TFT阵列基板相对设置;其中,所述彩膜基板朝向所述TFT阵列基板的一侧上设置有透明共用电极。

与现有技术相比,本发明具有如下突出的优点之一:

本发明的TFT阵列基板及其制造方法和显示装置,通过将第一共用电极线设置在第一金属层(与栅线同一层),将第二共用电极线设置在第二金属层(与数据线同一层),可以减少一定数量的数据线,本发明巧妙利用减少的那一定数量的数据线,来设置第二共用电极线,以达到不降低开口率的目的,而且,第三共用电极线至少与第一、二共用电极线其中之一电性连接,使得在栅线驱动时,该TFT阵列结构可以实现纵向(数据线方向)和横向(栅线方向)的电流传导,至少达到降低共用电极线信号(公共信号)延迟,降低闪烁(Flicker)不均和串扰(Crosstalk),提高了显示的品质,并且由于源极驱动器(未图示)成本比栅极驱动器(未图示)成本高,而减少了一定数量的数据线,就减少了源极驱动器,所以也可以实现降低制造成本,简化工艺流程的好处之一。

附图说明

图1是本发明实施例一的TFT阵列基板的结构示意图;

图2是本发明实施例二的TFT阵列基板的结构示意图;

图3是本发明实施例三的TFT阵列基板的结构示意图;

图4是本发明实施例四的TFT阵列基板的结构示意图;

图5(a)是本发明实施例四的TFT阵列基板制造工艺的结构示意图;

图5(b)是本发明实施例四的TFT阵列基板制造工艺的结构示意图;

图5(c)是本发明实施例四的TFT阵列基板制造工艺的结构示意图。

具体实施方式

为使本发明的上述目的、特征和优点能够更为明显易懂,下面将结合附图和实施例对本发明做进一步说明。

需要说明的是:

在以下描述中阐述了具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以多种不同于在此描述的其它方式来实施,本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似推广。因此本发明不受下面公开的具体实施方式的限制。

实施例一

如图1所示,本发明提供一种TFT阵列基板,包括显示区A和非显示区B,

显示区A包括:第一金属层11,其包括第一共用电极线111;以及第二金属层12,其包括第二共用电极线121;非显示区B包括第三共用电极线21,用于提供公共信号,第三共用电极线21与第一共用电极线111电性连接,第三共用电极线21与第二共用电极线121电性连接,第一共用电极线111与第一共用电极线111电性不连接。

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