[发明专利]用于表面处理的组合物、制备表面处理的制品的方法及表面处理的制品

说明书

技术领域

本发明整体涉及一种用于表面处理的组合物，并且更具体地涉及一种包含硅氧烷聚合物和聚氟聚醚硅烷的组合物。本发明还涉及一种制备具有该组合物的表面处理的制品的方法并涉及由该方法形成的表面处理的制品。

背景技术

电子和光学装置/部件的表面常常由于来自手和手指的油而易被沾污和弄脏。例如，包括交互式触摸屏显示器的电子装置，如智能手机，通常在使用时被指纹、皮肤油、汗水、化妆品等弄脏。一旦这些污渍和/或污迹附着到这些装置的表面，污渍和/或污迹就不容易被移除。此外，此类污渍和/或污迹降低了这些装置的可用性。

在最小化此类污渍和污迹的外观和发生率的尝试中，常规的表面处理组合物已施加到各种装置/部件的表面上以形成常规的层。此类常规表面处理组合物通常由氟化聚合物和溶剂组成。然而，此类氟化聚合物通常是制造或获取成本高昂的。此外，该聚合物通常难以改性，例如减小由此类常规表面处理组合物形成的常规层的摩擦系数。

发明内容

本发明提供一种用于基底的表面处理的组合物。该组合物包含具有重复的R₂SiO_2/2单元的硅氧烷聚合物，其中R为独立地选择的取代或未取代的烃基。该组合物还包含聚氟聚醚硅烷。

本发明还提供一种制备表面处理的制品的方法。该方法包括在制品的表面上施加用于表面处理的组合物以在制品的表面上形成层。

最后，本发明提供根据该方法形成的表面处理的制品。

该组合物形成易于清洁且具有包括耐沾污性的优异物理特性的层。此外，由该组合物形成的层可具有选择性地控制的摩擦系数，该摩擦系数取决于组合物中的硅氧烷聚合物和聚氟聚醚硅烷的相对量。此外，层和组合物可以以比由常规组合物形成的常规层显著更低的成本制备，同时仍然保持这样优异的物理特性并且提供附加有益效果。

具体实施方式

本发明提供用于表面处理的组合物、制备表面处理的制品的方法以及根据该方法形成的表面处理的制品。该组合物形成易于清洁且具有包括耐沾污性的优异物理特性的层。此外，相对于由常规组合物形成的常规层，由该组合物形成的层具有理想的摩擦系数和降低的成本。

该组合物包含硅氧烷聚合物。硅氧烷聚合物包含重复的R₂SiO_2/2单元，其中R为独立地选择的取代或未取代的烃基。例如，R可以是脂族烃、芳族烃、环状烃、脂环烃等。此外，R可包括烯属不饱和基团。所谓“取代的”是指烃的一个或多个氢原子可用除氢之外的原子(如卤素原子，例如氯、氟、溴等)代替，或者R的链内的碳原子可用除碳之外的原子代替，即，R可包括在链内的一个或多个杂原子，例如氧、硫、氮等。R通常具有从1至10个碳原子，或者从1至6个碳原子。包含至少3个碳原子的取代或未取代的烃基可具有支链或非支链的结构。由R表示的烃基的例子包括但不限于：烷基，例如甲基、乙基、丙基、1-甲基乙基、丁基、1-甲基丙基、2-甲基丙基、1，1-二甲基乙基、戊基、1-甲基丁基、1-乙基丙基、2-甲基丁基、3-甲基丁基、1，2-二甲基丙基、2，2-二甲基丙基、己基、庚基、辛基、壬基和癸基；烯基，例如乙烯基；环烷基，例如环戊基、环己基和甲基环己基；芳基，例如苯基和萘基；烷芳基，例如甲苯基和二甲苯基；以及芳烷基，例如苄基和苯乙基。由R表示的卤代烃基的例子包括但不限于3，3，3-三氟丙基、3-氯丙基、氯苯基、二氯苯基、2，2，2-三氟乙基、2，2，3，3-四氟丙基和2，2，3，3，4，4，5，5-八氟戊基。

除了由R表示的基团之外，硅氧烷聚合物可包括在任何末端或侧基位置处的附加的取代基或官能团。例如，硅氧烷聚合物可包括硅键合的羟基、氢原子、胺基团、硅氮烷基团、(甲基)丙烯酸基团、环氧基团等。此 类基团或原子可存在于重复的D单元(如下所述)中或末端M单元(其通常具有化学式R₃SiO_1/3，除非R中的一个或多个被这些附加取代基或官能团中的一个代替)中。最典型地，如果存在，则此类基团在硅氧烷聚合物中为末端基团。