[发明专利]用于表面处理的组合物、制备表面处理的制品的方法及表面处理的制品

权利要求书

1.一种用于基底的表面处理的组合物，所述组合物包含：

硅氧烷聚合物，所述硅氧烷聚合物包括重复的R₂SiO_2/2单元，其中R为独立地选择的取代或未取代的烃基；以及

聚氟聚醚硅烷。

2.根据权利要求1所述的组合物，还包含溶剂。

3.根据权利要求1所述的组合物，其中所述硅氧烷聚合物还包括RSiO_3/2单元和/或SiO_4/2单元。

4.根据权利要求1和2中任一项所述的组合物，其中所述硅氧烷聚合物具有以下通式(A)：

(X)_3-a(R)_a-Si-(CH₂)_b-(O)_c-((SiR₂-O)_d-SiR₂)_e-(CH₂)_f-[((SiR₂-O)_g-SiR₂)_h-(CH2)_i]_j-((SiR₂-O)_k-SiR₂)_l-(O)_m-(CH₂)_n-Si-(X)_3-p(R)_p；

其中X为独立地选择的能水解基团；R定义如上；a和p各自为独立地选自0至3的整数；b、f、i和n各自为独立地选自0至10的整数；c和m各自独立地为0或1；d、g和k各自为独立地选自0至200的整数，前提条件是d、g和k不同时为0；e、h和l各自为独立地选自0和1的整数，前提条件是e、h和l不同时为0；并且j为选自0至5的整数；

前提条件是当下标d为0时，下标e也为0；当下标d大于0时，下标e为1；当下标g为0时，下标h、i和j也为0；当下标g大于1时，下标h为1，并且下标j为至少1；当下标k为0时，下标l也为0；并且当下标k大于0时，下标l为1。