[发明专利]显示基板及其制备方法、显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是指一种显示基板及其制备方法、显示装置。

背景技术

受偏光片制作设备的限制，目前大多数厂商只能提供超大尺寸液晶显示面板所需要的上偏光片（CF POL），但很难提供满足尺寸要求的下偏光片（TFT POL）。另外，超大尺寸的偏光片在运输过程中容易发生翘曲变形等问题，会降低显示面板的良率。

如图1所示，目前大多数的超大尺寸液晶显示面板通过拼接的方式实现下偏光片的贴附，然而由于偏光片裁切和贴附精度的限制，偏光片尤其是下偏光片并不能实现完美的拼接，在拼接处会存在漏光等问题，影响液晶显示面板的显示。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种显示基板及其制备方法、显示装置，能够消除拼接偏光片带来的漏光问题。

为解决上述技术问题，本发明的实施例提供技术方案如下：

一方面，提供一种显示基板，包括偏光片层，所述偏光片层由多个偏光片拼接而成；

所述显示基板还包括覆盖膜片，所述覆盖膜片与所述偏光片层不同层设置，且覆盖所述偏光片的拼接缝隙；所述覆盖膜片的吸光轴与所述偏光片的吸光轴方向平行。

进一步地，上述方案中，所述覆盖膜片位于所述偏光片的偏向所述显示基板内部的一侧。

进一步地，上述方案中，所述覆盖膜片所在的层与所述偏光片层相邻。

进一步地，上述方案中，所述显示基板还包括：

与所述覆盖膜片同层设置的平坦层，所述平坦层的厚度不小于所述覆盖膜片的厚度。

进一步地，上述方案中，所述平坦层与所述覆盖膜片相邻接，且所述平坦层的厚度等于所述覆盖膜片的厚度；或

所述平坦层的第一区域与所述覆盖膜片的区域相重合，且所述第一区域的厚度与所述覆盖膜片的厚度之和等于所述平坦层的除所述第一区域之外的区域的厚度。

进一步地，上述方案中，所述覆盖膜片沿所述拼接缝隙方向的宽度为所述拼接缝隙宽度的3～5倍。

进一步地，上述方案中，所述覆盖膜片的厚度为20至30微米。

进一步地，上述方案中，所述覆盖膜片为聚乙烯醇PVA偏光膜片。

进一步地，上述方案中，所述平坦层由压敏胶或其他透明绝缘材料形成。

本发明实施例还提供了一种显示装置，包括如上所述的显示基板。

本发明实施例还提供了一种显示基板的制备方法，包括在待贴附偏光片的基板上贴附偏光片层的步骤；其中所述偏光片层由多个偏光片拼接而成；所述在待贴附偏光片的基板上贴附偏光片层的步骤包括：

在所述待贴附偏光片的基板上贴附覆盖膜片，所述覆盖膜片所在的区域覆盖将要贴附的所述偏光片的拼接缝隙的区域，且所述覆盖膜片的吸光轴与所述偏光片的吸光轴方向平行；

贴附所述多个偏光片，拼接构成所述偏光片层，拼接缝隙的区域不超出所述覆盖膜片所占的区域。

进一步地，上述方案中，所述在所述待贴附偏光片的基板上贴附覆盖膜片包括：

在所述偏光片的偏向所述显示基板内部的一侧贴附覆盖膜片。

进一步地，上述方案中，在贴附所述多个偏光片之前，所述方法还包括：

在未贴附偏光片的基板上形成平坦层，所述平坦层的厚度不小于所述覆盖膜片的厚度。

进一步地，上述方案中，所述形成平坦层的步骤是在贴附所述覆盖膜片之后进行的，所述平坦层与所述覆盖膜片同层且不重叠，且所述平坦层的厚度等于所述覆盖膜片的厚度。

进一步地，上述方案中，所述形成平坦层的步骤是在贴附所述覆盖膜片之前进行的，且所述平坦层的第一区域与所述覆盖膜片的区域相重合，且所述第一区域的厚度与所述覆盖膜片的厚度之和等于所述平坦层的除所述第一区域之外的区域的厚度。

进一步地，上述方案中，所述覆盖膜片沿所述拼接缝隙方向的宽度为所述拼接缝隙宽度的3～5倍。

进一步地，上述方案中，所述覆盖膜片的厚度为20至30微米。

进一步地，上述方案中，所述覆盖膜片为聚乙烯醇PVA偏光膜片。

进一步地，上述方案中，采用压敏胶或其他透明绝缘材料形成所述平坦层。

本发明的实施例具有以下有益效果：

上述方案中，显示基板包括有与偏光片层不同层设置，且覆盖偏光片的拼接缝隙的覆盖膜片，覆盖膜片的吸光轴方向与偏光片层的偏光片的吸光轴方向平行，覆盖膜片能够起到偏光作用，这样通过覆盖膜片的保护，能够减小显示基板的透过率损失，消除拼接偏光片带来的漏光问题。

附图说明

图1为现有技术中偏光片拼接处出现漏光的示意图；