[发明专利]显示基板及其制备方法、显示装置

权利要求书

1.一种显示基板，包括偏光片层，其特征在于，

所述偏光片层由多个偏光片拼接而成；

所述显示基板还包括覆盖膜片，所述覆盖膜片与所述偏光片层不同层设置，且覆盖所述偏光片的拼接缝隙；所述覆盖膜片的吸光轴与所述偏光片的吸光轴方向平行。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述覆盖膜片位于所述偏光片的偏向所述显示基板内部的一侧。

3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述覆盖膜片所在的层与所述偏光片层相邻。

4.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括：

与所述覆盖膜片同层设置的平坦层，所述平坦层的厚度不小于所述覆盖膜片的厚度。

5.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，

所述平坦层与所述覆盖膜片相邻接，且所述平坦层的厚度等于所述覆盖膜片的厚度；或

所述平坦层的第一区域与所述覆盖膜片的区域相重合，且所述第一区域的厚度与所述覆盖膜片的厚度之和等于所述平坦层的除所述第一区域之外的区域的厚度。

6.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述覆盖膜片沿所述拼接缝隙方向的宽度为所述拼接缝隙宽度的3～5倍。

7.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述覆盖膜片的厚度为20至30微米。

8.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述覆盖膜片为聚乙烯醇PVA偏光膜片。

9.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，所述平坦层由压敏胶或其他透明绝缘材料形成。

10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-9中任一项所述的显示基板。

11.一种显示基板的制备方法，包括在待贴附偏光片的基板上贴附偏光片层的步骤；其中所述偏光片层由多个偏光片拼接而成；其特征在于，

所述在待贴附偏光片的基板上贴附偏光片层的步骤包括：

在所述待贴附偏光片的基板上贴附覆盖膜片，所述覆盖膜片所在的区域覆盖将要贴附的所述偏光片的拼接缝隙的区域，且所述覆盖膜片的吸光轴与所述偏光片的吸光轴方向平行；

贴附所述多个偏光片，拼接构成所述偏光片层，拼接缝隙的区域不超出所述覆盖膜片所占的区域。

12.根据权利要求11所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述在所述待贴附偏光片的基板上贴附覆盖膜片包括：

在所述偏光片的偏向所述显示基板内部的一侧贴附覆盖膜片。

13.根据权利要求11所述的显示基板的制备方法，其特征在于，在贴附所述多个偏光片之前，所述方法还包括：

在未贴附偏光片的基板上形成平坦层，所述平坦层的厚度不小于所述覆盖膜片的厚度。

14.根据权利要求13所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述形成平坦层的步骤是在贴附所述覆盖膜片之后进行的，所述平坦层与所述覆盖膜片同层且不重叠，且所述平坦层的厚度等于所述覆盖膜片的厚度。

15.根据权利要求13所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述形成平坦层的步骤是在贴附所述覆盖膜片之前进行的，且所述平坦层的第一区域与所述覆盖膜片的区域相重合，且所述第一区域的厚度与所述覆盖膜片的厚度之和等于所述平坦层的除所述第一区域之外的区域的厚度。

16.根据权利要求11所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述覆盖膜片沿所述拼接缝隙方向的宽度为所述拼接缝隙宽度的3～5倍。

17.根据权利要求11所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述覆盖膜片的厚度为20至30微米。

18.根据权利要求11所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述覆盖膜片为聚乙烯醇PVA偏光膜片。

19.根据权利要求13所述的显示基板的制备方法，其特征在于，采用压敏胶或其他透明绝缘材料形成所述平坦层。