[发明专利]配气系统无效
申请号: | 201310303810.X | 申请日: | 2013-07-18 |
公开(公告)号: | CN103352207A | 公开(公告)日: | 2013-10-16 |
发明(设计)人: | 林翔;黄贺 | 申请(专利权)人: | 光垒光电科技(上海)有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 郑玮 |
地址: | 200050 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 系统 | ||
1.一种气相沉积设备的配气系统,所述配气系统用于向所述气相沉积设备的反应腔输出反应气体,所述配气系统包括第一气体单元、第一气体输送管道和供气管,所述供气管的输出端连接所述反应腔,所述第一气体输送管道的输出端连接所述供气管,所述第一气体输送管道的输入端连接所述第一气体单元,所述第一气体单元向所述第一气体传输管道输出包括第一反应源和第一载气的第一气体,所述第一气体通过所述第一气体传输管道通入到所述供气管中;所述供气管中流通有流向所述反应腔的第二载气,所述第一气体通入到所述供气管后,与所述第二载气混合后流入到所述反应腔中,其中,所述第二载气的流量大于等于所述第一气体流量的5倍,所述第一气体传输管道能够吸附所述第一反应源;其特征在于:所述第一气体传输管道上设置有一第一反应源浓度检测仪,所述第一反应源浓度检测仪用于检测所述第一气体传输管道内所述第一气体中的第一反应源的浓度,所述第一反应源浓度检测仪的检测点与所述第一气体传输管道的输出端的距离小于等于500mm。
2.如权利要求1所述的配气系统,其特征在于:所述第一气体单元包括第一反应源源瓶、第一载气加载管路、第一气体蒸出管路、第一载气短路管路和第一载气分流管路,所述第一载气加载管路上设置有第一流量计和第一真空阀,所述第一载气加载管路的输入端连接一反应气体加载总线,所述第一载气加载管路的输出端经过所述第一真空阀后,与所述第一反应源源瓶连接,所述第一气体蒸出管路上设置有第二真空阀,所述第一气体蒸出管路的输入端与所述第一反应源源瓶连接,所述第一气体蒸出管路的输出端连接所述第一气体输送管道的输入端,所述第一载气分流管路设置于所述第一载气加载管路的输入端与所述第一气体蒸出管路的输出端之间,所述第一载气分流管路上设置有第二流量计,所述第一载气加载管路和第一气体蒸出管路之间连接有所述第一载气短路管路,所述第一载气短路管路上设置有第三真空阀,切换所述第一真空阀、第二真空阀和第三真空阀实现所述第一气体与所述第一载气的切换。
3.如权利要求1所述的配气系统,其特征在于:所述第一气体输送管道的输出端通过一调节气阀连接所述供气管,所述第一浓度检测仪的监测点设置于所述调节气阀与所述第一气体输送管道的连接处。
4.如权利要求1所述的配气系统,其特征在于:所述第一反应源为III族源气体。
5.如权利要求4所述的配气系统,其特征在于:所述第一气体传输管道的材质为不锈钢。
6.如权利要求4所述的配气系统,其特征在于:所述III族源气体为三甲基铝、三甲基镓或三甲基铟中的一种或几种的组合。
7.如权利要求4所述的配气系统,其特征在于:所述第一载气为氢气或氮气中的一种或组合。
8.如权利要求1-7中任意一项所述的配气系统,其特征在于:所述配气系统还包括第二气体单元,所述第二气体单元与所述供气管连接,所述第二气体单元向所述供气管输入所述第二载气。
9.如权利要求8所述的配气系统,其特征在于:所述第二载气为与所述第一载气相同的气体。
10.如权利要求1所述的配气系统,其特征在于:所述第一气管的长度大于等于1000mm。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的