[发明专利]沉积设备、制造有机发光显示设备的方法及显示设备

权利要求书

1.一种有机层沉积设备，所述有机层沉积设备包括：

输送器单元，包括用于附着基底并且被构造为与所述基底一起移动的传送单元、用于将附着有基底的传送单元沿着第一方向移动的第一输送器单元和用于在已经完成沉积之后将与基底分开的传送单元沿着与第一方向相反的方向移动的第二输送器单元；以及

沉积单元，包括被构造成保持在真空状态下的室以及用于将有机层沉积在附着于传送单元的基底上的有机层沉积组件，

其中，有机层沉积组件包括：

沉积源，用于排放沉积材料；

沉积源喷嘴单元，在沉积源的一侧并包括多个沉积源喷嘴；

图案化缝隙片，面对沉积源喷嘴单元并包括沿第一方向布置的多个图案化缝隙；以及

沉积源快门，能够沿第一方向移动并被构造为选择性地阻挡在沉积源中蒸发的沉积材料，

其中，传送单元被构造为在第一输送器单元和第二输送器单元之间移动，并被构造为使附着的基底在被第一输送器单元传送的同时与有机层沉积组件分隔开。

2.如权利要求1所述的有机层沉积设备，其中，有机层沉积组件还包括角度限定板，角度限定板在沉积源的一侧以引导在沉积源中蒸发的沉积材料的流路径。

3.如权利要求2所述的有机层沉积设备，其中，角度限定板围绕沉积源的一部分。

4.如权利要求2所述的有机层沉积设备，其中，沉积源快门包括具有平板形状的第一沉积源快门和第二沉积源快门，沉积源由于第一沉积源快门和第二沉积源快门的移动而打开或关闭。

5.如权利要求1所述的有机层沉积设备，其中，沉积源快门包括第一沉积源快门和第二沉积源快门，并且

其中，第一沉积源快门和第二沉积源快门中的每个包括平板部分和从平板部分弯曲的倾斜部分。

6.如权利要求5所述的有机层沉积设备，其中，槽在倾斜部分的一端并对应于所述多个沉积源喷嘴中的一个。

7.如权利要求5所述的有机层沉积设备，其中，倾斜部分被构造为引导在沉积源中蒸发的沉积材料的流路径。

8.如权利要求5所述的有机层沉积设备，其中，沉积源由于第一沉积源快门和第二沉积源快门的移动而打开或关闭。

9.如权利要求1所述的有机层沉积设备，所述有机层沉积设备还包括控制传感器，控制传感器在沉积源的一侧，以测量在沉积源中蒸发的沉积材料的沉积速率。

10.如权利要求9所述的有机层沉积设备，其中，控制传感器被构造为在传送单元与基底一起移动的同时测量沉积材料的沉积速率，并且

其中，利用沉积速率来控制在沉积源中蒸发的沉积材料的蒸发量。

11.如权利要求10所述的有机层沉积设备，其中，控制由控制传感器测量的沉积源的沉积速率，从而以目标厚度在基底上沉积沉积材料。

12.如权利要求1所述的有机层沉积设备，其中，第一输送器单元和第二输送器单元穿过沉积单元。

13.如权利要求1所述的有机层沉积设备，其中，第一输送器单元和第二输送器单元平行地布置在彼此上方。

14.如权利要求1所述的有机层沉积设备，所述有机层沉积设备还包括：

加载单元，用于将基底附着到传送单元；以及

卸载单元，用于将在穿过沉积单元的同时已经对其完成了沉积的基底与传送单元分开。

15.如权利要求14所述的有机层沉积设备，其中，第一输送器单元被构造为将传送单元顺序地传递至加载单元、沉积单元和卸载单元。

16.如权利要求14所述的有机层沉积设备，其中，第二输送器单元被构造为将传送单元顺序地传递至卸载单元、沉积单元和加载单元。

17.如权利要求1所述的有机层沉积设备，其中，有机层沉积组件被构造为使得从沉积源排放的沉积材料穿过图案化缝隙片，并随后被沉积在基底上，同时沉积材料在基底上形成图案。

18.如权利要求1所述的有机层沉积设备，其中，有机层沉积组件的图案化缝隙片在第一方向或与第一方向垂直的第二方向中的至少一个中比基底小。