[发明专利]一种去除遮罩上有机或脏污的装置

说明书

技术领域

本发明涉及清洗装置领域，且特别涉及一种去除遮罩上有机或脏污的装置。

背景技术

近年来，使用有机电致发光(Electro Luminescence：以下称“有机EL”)组件的有机EL显示装置，已取代CRT及LCD的显示装置而受到嘱目，正研究开发一种具备例如用以驱动该有机EL组件的薄膜晶体管(Thin Film Transistor：以下称“TFT”)的有机EL显示装置。

有机EL组件被依序层积形成：由ITO(Indium Tin Oxide氧化铟锡)等的透明电极所形成的阳极；由MTDATA(4，4-双(3-甲基苯基苯氨基)联苯)等第1空穴输送层、TPD(4，4，4-三(3-甲基苯基苯氨基)三苯胺)等第2空穴输送层所构成的空穴输送层；包含啶酮(Quinacridone)衍生物的Bebq2(10-苯弁[h]轻基喹啉-铍络合物(10-benzo[h]quinolinol-beryllium complex))所形成的发光层；由Bebq2所形成的电子输送层；及由铝合金所形成的阴极的构造。

如上所述的有机EL组件通过用以驱动该有机EL组件的驱动用TFT供给电流而发光。即，从阳极所注入的空穴与从阴极所注入的电子在发光层内部再结合，激发用以形成发光层的有机分子而产生激发子(exdton)。在该激发子放射失活的过程中由发光层发光，该光会从透明的阳极经由透明的阳极及玻璃基板等绝缘性基板放出至外部而进行发光。

上述有机EL组件的各层中，用于形成空穴输送层、发光层、电子输送层的有机材料具有耐溶剂性低、不耐水分的特性。因此无法利用半导体工艺的光刻技术。因此，通过使用以例如金属薄膜所构成的金属遮罩(屏蔽)的蒸镀法，使上述有机材料选择性蒸镀在具备驱动用TFT的绝缘性基板上，以形成有机EL组件的空穴输送层、发光层、电子输送层及阴极的图案。

当蒸镀完成后，有机物将会沾附于金属遮罩的表面，因此，为了之后的使用金属遮罩需要进行清洗。目前金属遮罩的清洗机采用浸泡药剂的方式，溶解去除沾附于遮罩表面的有机物。此方式的浸泡槽内随时装有大量的药剂供浸泡金属遮罩使用，而使用此清洗方法导致药剂耗用量大，使用成本高，且浸泡槽内储存有大量的药剂，在设备安全性上有较高的风险。

发明内容

针对现有技术中的缺陷，本发明的目的是提供一种去除遮罩上有机或脏污的装置。

根据本发明的一个方面提供一种去除遮罩上有机或脏污的装置，其包括：槽体，所述槽体用于放置金属遮罩；夹具，所述夹具固定所述金属遮罩；其特征在于，所述装置还包括：喷洒机构，所述喷洒机构连接一药液储存装置，所述喷洒机构将所述药液储存装置中的的药液喷洒至所述金属遮罩对其进行清洗；所述槽体的底部设有一排液口，所述喷洒机构喷洒的药液清洗所述金属遮罩后从所述排液口流出所述槽体。

优选地，所述装置还包括第一控制机构，所述第一控制机构连接所述喷洒机构，控制所述喷洒机构清洗时沿竖直方向上下移动喷洒药液。

优选地，所述装置还包括第二控制机构，所述第二控制机构连接所述夹具，清洗时控制所述金属遮罩沿竖直方向上下移动。

优选地，所述喷洒机构包括若干喷洒直管，清洗时，所述喷洒直管位于所述金属遮罩的侧面，向所述金属遮罩的表面喷洒药液。

优选地，所述喷洒机构包括两根喷洒直管，清洗时，所述两根喷洒直管分别位于所述金属遮罩的两侧。

优选地，所述喷洒机构包括四根喷洒直管，清洗时，其中两根所述喷洒直管位于所述金属遮罩的一个侧面，另两根所述喷洒直管位于所述金属遮罩的另一个侧面。

优选地，所述喷洒直管的长度大于等于所述金属遮罩侧面的长度，其喷洒区域覆盖所述金属遮罩的整个表面。

优选地，所述喷洒直管的长度小于所述金属遮罩的长度。

优选地，所述第一控制机构还控制所述喷洒直管沿所述金属遮罩的侧面水平移动喷洒药液，使其喷洒区域覆盖所述金属遮罩的整个表面。

优选地，所述喷洒机构包括一环形管，所述金属遮罩清洗时位于所述环形管的中间。

优选地，所述喷洒机构的喷洒方向为朝向所述金属遮罩侧向下喷洒。

优选地，所述喷洒机构的喷洒方向为朝向所述金属遮罩侧向上喷洒。

优选地，所述装置还包括旋转机构，所述旋转机构与所述喷洒机构相连接，控制喷洒机构自转，以改变其喷洒角度。

优选地，所述旋转机构控制所述喷洒机构的自转的可转动角度为180度。