[发明专利]一种去除遮罩上有机或脏污的装置

权利要求书

1.一种去除遮罩上有机或脏污的装置，其包括：

槽体，所述槽体用于放置金属遮罩；

夹具，所述夹具固定所述金属遮罩；

其特征在于，所述装置还包括：

喷洒机构，所述喷洒机构连接一药液储存装置，所述喷洒机构将所述药液储存装置中的的药液喷洒至所述金属遮罩对其进行清洗；

所述槽体的底部设有一排液口，所述喷洒机构喷洒的药液清洗所述金属遮罩后从所述排液口流出所述槽体。

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述装置还包括第一控制机构，所述第一控制机构连接所述喷洒机构，控制所述喷洒机构清洗时沿竖直方向上下移动喷洒药液。

3.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述装置还包括第二控制机构，所述第二控制机构连接所述夹具，清洗时控制所述金属遮罩沿竖直方向上下移动。

4.根据权利要求2或3所述的装置，其特征在于，所述喷洒机构包括若干喷洒直管，清洗时，所述喷洒直管位于所述金属遮罩的侧面，向所述金属遮罩的表面喷洒药液。

5.根据权利要求4所述的装置，其特征在于，所述喷洒机构包括两根喷洒直管，清洗时，所述两根喷洒直管分别位于所述金属遮罩的两侧。

6.根据权利要求4所述的装置，其特征在于，所述喷洒机构包括四根喷洒直管，清洗时，其中两根所述喷洒直管位于所述金属遮罩的一个侧面，另两根所述喷洒直管位于所述金属遮罩的另一个侧面。

7.根据权利要求4所述的装置，其特征在于，所述喷洒直管的长度大于等于所述金属遮罩侧面的长度，其喷洒区域覆盖所述金属遮罩的整个表面。

8.根据权利要求4所述的装置，其特征在于，所述喷洒直管的长度小于所述金属遮罩的长度。

9.根据权利要求8所述的装置，其特征在于，所述第一控制机构还控制所述喷洒直管沿所述金属遮罩的侧面水平移动喷洒药液，使其喷洒区域覆盖所述金属遮罩的整个表面。

10.根据权利要求2或3所述的装置，其特征在于，所述喷洒机构包括一环形管，所述金属遮罩清洗时位于所述环形管的中间。

11.根据权利要求2或3所述的装置，其特征在于，所述喷洒机构的喷洒方向为朝向所述金属遮罩侧向下喷洒。

12.根据权利要求2或3所述的装置，其特征在于，所述喷洒机构的喷洒方向为朝向所述金属遮罩侧向上喷洒。

13.根据权利要求2或3所述的装置，其特征在于，所述装置还包括旋转机构，所述旋转机构与所述喷洒机构相连接，控制喷洒机构自转，以改变其喷洒角度。

14.根据权利要求13所述的装置，其特征在于，所述旋转机构控制所述喷洒机构的自转的可转动角度为180度。

15.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述喷洒机构上包括若干喷洒孔，所述药液从所述喷洒孔洒向所述金属遮罩。

16.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述喷洒机构上包括若干喷洒槽，所述药液从所述喷洒槽洒向所述金属遮罩。

17.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述装置还包括一加热装置，对喷洒机构内的药液进行加热。

18.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述装置还包括一超声波发射装置，所述超声波发射装置从所述槽体外向所述金属遮罩发射超声波。

19.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述药液为有机溶液。

20.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述排液口对所述药液的排量大于所述喷洒机构对药液的喷洒量。