[发明专利]触摸显示屏及其滤光片组件以及该滤光片组件制备方法

权利要求书

1.一种滤光片组件，其特征在于，包括：

基片，包括第一表面及与所述第一表面相对设置的第二表面；

第一导电层，附着于所述第一表面，所述第一导电层为导电丝线相互交叉形成的导电网格，所述第一导电层包括多个第一网格单元；

遮光层，位于所述第一导电层背向所述基片的一侧，以将所述第一导电层夹持于所述遮光层与所述基片之间，所述遮光层为栅格线相互交叉形成的栅格状结构，所述遮光层包括多个栅格单元，形成所述第一导电层的导电丝线在所述遮光层上的投影位于所述栅格线内；

滤光层，附着于所述第一表面，所述滤光层包括多个间隔设置的滤光单元，多个所述滤光单元分别位于所述多个栅格单元内；

基质层，附着于所述第二表面；及

第二导电层，嵌设于所述基质层，所述第二导电层为导电丝线相互交叉形成的导电网格，导电丝线的交叉处形成网格节点，所述第二导电层包括多个第二网格单元。

2.根据权利要求1所述的滤光片组件，其特征在于，所述基质层背向所述遮光层的一侧开设有第二网格凹槽，所述第二导电层由填充于所述第二网格凹槽中的导电材料固化形成。

3.根据权利要求2所述的滤光片组件，其特征在于，所述第二网格凹槽的深度不小于所述第二导电层的厚度。

4.根据权利要求1所述的滤光片组件，其特征在于，形成所述第一导电层的导电丝线的宽度小于所述栅格线的宽度。

5.根据权利要求4所述的滤光片组件，其特征在于，所述滤光层的厚度大于所述遮光层的厚度。

6.根据权利要求1所述的滤光片组件，其特征在于，形成所述第一导电层的导电丝线的宽度等于所述栅格线的宽度。

7.根据权利要求6所述的滤光片组件，其特征在于，所述滤光层的厚度大于所述遮光层与所述第一导电层的厚度之和。

8.根据权利要求1所述的滤光片组件，其特征在于，形成所述第二导电层的导电丝线在所述遮光层的投影位于所述栅格线内。

9.根据权利要求1或8所述的滤光片组件，其特征在于，形成所述第二导电层的导电丝线的宽度介于0.2至5微米之间，所述第二网格单元中相邻的两个网格节点之间的距离介于50至500微米之间。

10.根据权利要求1所述的滤光片组件，其特征在于，每一所述第一网格单元的范围内至少容纳一个所述滤光单元。

11.根据权利要求1所述的滤光片组件，其特征在于，所述第一导电层形成多条相互绝缘的第一导电单元，所述第二导电层形成多条相互绝缘的第二导电单元。

12.一种触摸显示屏，其特征在于，包括依次层叠的薄膜晶体管电极、液晶模组、如上述权利要求1～11任一项所述滤光片组件及上偏光片，其中，所述上偏光片位于所述第二导电层所在的一侧。

13.一种滤光片组件制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

提供一基片，所述基片包括第一表面及与所述第一表面相对设置的第二表面；

在所述第一表面形成第一导电层及位于所述第一导电层背向所述基片的一侧的遮光层，所述遮光层为栅格线相互交叉形成的栅格状结构，包括多个栅格单元；

向所述多个栅格单元内分别涂覆光阻材料，以形成多个间隔设置的滤光单元，所述多个滤光单元形成滤光层；

在所述第二表面涂覆压印胶并固化以得到基质层，及使所述基质层远离所述基片的一侧形成图形化的第二网格凹槽；

向所述第二网格凹槽内填充导电材料并使其固化，以形成第二导电层。

14.根据权利要求13所述的滤光片组件制备方法，其特征在于，所述在所述第一表面形成第一导电层及位于所述第一导电层背向所述基片的一侧的遮光层，所述遮光层为栅格线相互交叉形成的栅格状结构，包括多个栅格单元的步骤具体为：

在所述第一表面镀导电膜或涂覆导电墨水，以形成导电膜层；

在所述导电膜层背向所述基片的一侧涂覆黑色光刻胶并预固化，以形成黑色光刻胶层；

利用曝光-显影将所述黑色光刻胶层蚀刻成栅格状，以得到所述遮光层；

对暴露于所述遮光层的导电膜层进行蚀刻，将所述导电膜层蚀刻成与所述遮光层形状相同的网格状，以获得所述第一导电层。

15.根据权利要求13所述的滤光片组件制备方法，其特征在于，所述在所述第一表面形成第一导电层及位于所述第一导电层背向所述基片的一侧的遮光层，所述遮光层为栅格线相互交叉形成的栅格状结构，包括多个栅格单元的步骤具体为：

在所述第一表面镀导电膜或涂覆导电墨水，以形成导电膜层；

在所述导电膜层上涂覆光刻胶，并预固化以形成光刻胶层，采用曝光-显影技术将所述光刻胶层蚀刻成网格状；

对暴露于所述光刻胶层的导电膜层进行蚀刻，以获得所述第一导电层，并除去所述光刻胶层附着于所述第一导电层上的部分；

在所述第一导电层上涂覆黑色光刻胶并预固化，以形成黑色光刻胶层，采用曝光-显影技术将所述黑色光刻胶层蚀刻成栅格状结构，以得到所述遮光层。