[发明专利]解析存储器操作类型错误的方法及其装置有效

专利信息
申请号: 201310276091.7 申请日: 2013-07-03
公开(公告)号: CN103345942A 公开(公告)日: 2013-10-09
发明(设计)人: 柯遥;魏文;蔡恩静;李强 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: G11C29/08 分类号: G11C29/08
代理公司: 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 代理人: 吴世华;林彦之
地址: 201210 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 解析 存储器 操作 类型 错误 方法 及其 装置
【权利要求书】:

1.一种解析存储器操作类型错误的方法,其特征在于,包括:

建立不同错误类型的操作错误与对应操作电压的对应关系;

在不同的操作电压下对存储器进行操作,获得对所述存储器进行操作时对应的多个操作错误;

根据对所述存储器进行操作时对应的多个操作错误,辨析不同操作错误的错误类型。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述操作错误的不同错误类型包括:写操作错误、读操作错误和干扰操作错误。

3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在不同错误操作对应电压下对存储器进行操作,获得对所述存储器进行操作时对应的多个操作错误包括:

清空存储器的存储数据,在正常操作电压下、错误操作电压下对存储器进行不同操作,获得不同的操作记录;

对不同的操作记录进行解析,从而解析出不同操作错误的错误类型。

4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,清空存储器的存储数据,在正常操作电压下、错误操作电压下对存储器进行不同操作,获得不同的操作记录包括:

清除存储器内的数据,并在错误操作电压下对存储器进行写操作、在正常操作电压下对存储器进行读操作,从而获得第一操作记录;

清除存储器内的数据,并在正常操作电压下对存储器进行写操作、在错误操作电压下对存储器进行写操作,从而获得第二操作记录;

清除存储器内的数据,并在正常操作电压下对存储进行度操作,从而获得第三操作记录。

5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,对不同的操作记录进行解析,从而解析出不同操作错误的错误类型,包括:

对所述第一操作记录进行解析,获得写操作错误;

对所述第二操作记录进行解析,获得干扰操作错误;

对所述第三操作记录进行解析,获得复合操作错误,所述复合操作错误为读操作错误和干扰错误的复合体;

根据从所述第二操作记录中获得的干扰操作错误、第三操作记录中获得的复合操作错误,获得读操作错误。

6.根据权利要求1-5任意所述的方法,其特征在于,还包括:根据对所述存储器进行操作时对应的多个操作错误,获得不同操作错误的操作电压和发生操作错误的地址。

7.一种解析存储器操作类型错误的装置,其特征在于,包括:

错误类型定义单元,用于建立不同错误类型的操作错误与对应操作电压的对应关系;

操作错误收集单元,用于在不同的操作电压下对存储器进行操作,获得对所述存储器进行操作时对应的多个操作错误;

错误类型解析单元,用于根据对所述存储器进行操作时对应的多个操作错误,解析不同操作错误的错误类型。

8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,操作错误收集单元包括:

操作记录获取单元,用于清空存储器的存储数据,在正常操作电压下、错误操作电压下对存储器进行不同操作,获得不同的操作记录;

操作错误解析单元,用于对不同的操作记录进行解析,从而解析出对应的多个操作错误。

9.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,操作记录单元包括:

第一操作记录单元,用于清除存储器内的数据,并在错误操作电压下对存储器进行写操作、在正常操作电压下对存储器进行读操作,从而获得第一操作记录;

第二操作记录单元,用于清除存储器内的数据,并在正常操作电压下对存储器进行写操作、在错误操作电压下对存储器进行写操作,从而获得第二操作记录;

第三操作记录单元,用于清除存储器内的数据,并在正常操作电压下对存储进行度操作,从而获得第三操作记录。

10.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,操作错误解析单元包括:

第一操作错误解析单元,用于对所述第一操作记录进行解析,获得写操作错误;

第二操作错误解析单元,用于对所述第二操作记录进行解析,获得干扰操作错误;

第三操作错误解析单元,用于对所述第三操作记录进行解析,获得复合操作错误,所述复合操作错误为读操作错误和干扰错误的复合体;

第四操作错误解析单元,用于根据从所述第二操作记录中获得的干扰操作错误、第三操作记录中获得的复合操作错误,获得读操作错误。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华力微电子有限公司,未经上海华力微电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310276091.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top