[发明专利]一种低辐射镀膜玻璃及其制备工艺

说明书

技术领域

本发明属于玻璃生产技术领域，尤其涉及一种低辐射镀膜玻璃及其制备工艺。

背景技术

低辐射镀膜玻璃是指在玻璃表面镀上具有极低表面辐射率的金属或其他化学试剂组成的多层纳米级膜层的一种功能型玻璃，主要用来提高建筑物的节能效果和居住舒适性。镀膜玻璃的此种性能除了与自身低辐射率有关外，还与镀膜层的厚度和层数有关。但受制备工艺和制备条件的限制，普通低辐射镀膜玻璃的镀膜层多为3-5层，如专利CN201424436Y就提供了一种只具有四层氧化物膜层结构的低反射镀膜玻璃，专利CN10195532A提供了一种具有八层膜结构的低辐射镀膜玻璃，包括三层介质层、两层阻挡层、一层铜膜层和一层银膜层。另外，低辐射镀膜玻璃的功能层主要为银层，银层特别容易氧化，玻璃在长期使用后其光学性能和热学性能都会大幅降低，尤其随着当今经济和城市发展进程的加快，城市高档建筑物、太阳能光电幕墙以及高档玻璃家具中对安装使用的玻璃幕墙的光学和热学性能要求逐步增加，传统单层银镀膜玻璃的光反射率、通透性等光热性能越来越不能满足目前市场对建筑镀膜玻璃的需求。

目前，低辐射镀膜玻璃的生产方法主要有两种：一种是在线镀膜，指在浮法玻璃生产过程中，在温度较高的玻璃表面按一定配比喷涂某些化学试剂，使玻璃表面形成具有一定低辐射功能的化合物薄膜，此种方法生产的镀膜玻璃产品具有较好的物理化学性能，较为适合在民用场所使用；另一种是离线镀膜，指将辐射率极低的银或其他金属化合物按一定比例通过真空磁控溅射的方式将其镀在玻璃表面上。在线镀膜玻璃受自身工艺影响，产品颜色单一，遮阳性能较难控制，其光学和热学性能比离线镀膜玻璃差很多，而现有离线镀膜技术一般只能在玻璃表面镀3-5层复合膜，针对较多复合膜层的镀膜技术还未见报道。

发明内容

本发明为解决公知技术中存在的技术问题而提供一种辐射率低、光学和热学性能稳定、节能效果明显的低辐射镀膜玻璃。

本发明为解决公知技术中存在的技术问题，还提供了一种上述镀膜玻璃的制备方法。

本发明为解决公知技术中存在的技术问题所采取的技术方案为：

一种低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片和镀膜层，所述镀膜层位于玻璃基片上表面，其特征在于所述镀膜层自玻璃基片向外依次为：Si₃N₄层、ZnOx层、Ag层、Cu层、NiCr层、ZnAlOx层、Si₃N₄层、ZnOx层、Ag层、NiCr层、ZnALOx层、Si₃N₄层。

一种低辐射镀膜玻璃的制备工艺，其特征在于包括以下步骤：

（1）清洗玻璃基片，干燥后将玻璃置于磁控溅射区；

（2）中频电源加旋转阴极溅射沉积第一层Si₃N₄层，溅射区域气氛为：工作气体为Ar，体积流量为400-600sccm，反应气体为N₂，体积流量为900-1200sccm；

（3）中频电源加旋转阴极溅射沉积第二层ZnOx层，溅射区域气氛为：工作气体为Ar，体积流量为400-600sccm，反应气体为O₂，体积流量为900-1200sccm；

（4）直流电源加脉冲溅射沉积第三层金属Ag层，溅射区域气氛为：工作气体为Ar，体积流量为400-600sccm；

（5）按照步骤（2）的制备方法沉积第七和第十二层Si₃N₄层，按照步骤（3）的方法沉积第六和第十一层ZnAlOx层、第八层ZnOx层，按照步骤（4）的方法沉积第四和第九层金属Ag层、第五和第十层NiCr层。

所述镀膜层各层厚度为：Si₃N₄层为22.5-23.5nm、ZnOx层为5.3-7.3nm、Ag层为8.3-10.3nm、Cu层为7.6-9.6nm、NiCr层为1.4-3.4nm、ZnAlOx层为12.2-14.2nm、Si₃N₄层为32.7-34.7nm、ZnOx层为8.9-10.9nm、Ag层为8.5-10.5nm、NiCr层为0.4-2.4nm、ZnALOx层为4.7-6.7nm、Si₃N₄层为36.8-38.8nm。

所述的低辐射镀膜玻璃表面呈金黄色。

所述玻璃基片可以是夹层玻璃、彩釉玻璃、钢化玻璃或着色玻璃。