[发明专利]单晶硅倒金字塔绒面的激光化学次序可控制备方法

权利要求书

1.单晶硅倒金字塔绒面的激光化学次序可控制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

（1）激光扫描开孔定位：软件绘制所需制绒图形，清洗硅片，通过电脑控制聚焦后的激光依照图形在硅片表面进行扫描开孔，形成微米级倒锥形孔均匀分布的绒面，能量密度：6.8J/cm²～8.4J/cm²，A=1.56*10⁷～2.68*10⁷，定义A为硅片表面平均每平方厘米所接收到的脉冲数；

（2）酸洗孔状绒面：HF酸漂洗孔状绒面，去除氧化物，再进行蒸馏水超声清洗，去除碎屑，之后氮气吹干；

（3）制备倒金字塔绒面：将酸洗后的样品放入配置好的碱性溶液中水浴加热，制备出微米级倒金字塔绒面。

2.如权利要求1所述的单晶硅倒金字塔绒面的激光化学次序可控制备方法，其特征在于，步骤（1）所用激光为皮秒激光，波长1064nm，光斑聚焦到微米级后对硅片表面进行扫描。

3.如权利要求1所述的单晶硅倒金字塔绒面的激光化学次序可控制备方法，其特征在于，步骤（2）所用HF酸的体积分数为15%～25%，HF酸漂洗时间3～5min，蒸馏水超声清洗时间3～5min。

4.如权利要求1所述的单晶硅倒金字塔绒面的激光化学次序可控制备方法，其特征在于，步骤（3）水浴加热的温度为75～80℃。

5.如权利要求1所述的单晶硅倒金字塔绒面的激光化学次序可控制备方法，其特征在于，步骤（3）水浴加热时间依步骤（2）制备的孔状绒面孔的开孔大小而定，20～30μm直径的开孔，需要加热10～15min。

6.如权利要求1所述的单晶硅倒金字塔绒面的激光化学次序可控制备方法，其特征在于，步骤（3）中碱性溶液由氢氧化钠、无水乙醇和蒸馏水配置而成，各原料的质量百分比为：

氢氧化钠  3%～5%

无水乙醇  15%～25%

蒸馏水    余量。