[发明专利]像素界定层及其制作方法、显示基板及显示装置

权利要求书

1.一种像素界定层，其特征在于，所述像素界定层包括像素分隔墙图案，且所述像素分隔墙的上表面具有凹陷。

2.根据权利要求1所述的像素界定层，其特征在于，所述凹陷的深度占所述像素分隔墙高度的20%至40%。

3.一种像素界定层的制作方法，其特征在于，包括：

对基板进行图案化表面处理；

在基板上形成像素界定层，所述像素界定层包括像素分隔墙图案，且所述像素分隔墙的上表面具有凹陷。

4.根据权利要求3所述的制作方法，其特征在于，形成所述像素界定层的溶液中溶剂的沸点在200゜C以下。

5.根据权利要求4所述的制作方法，其特征在于，所述喷墨打印的溶液的溶剂为二氯甲烷、三氯甲烷、四氢呋喃、氯苯、甲苯、邻二氯苯、邻二甲苯、正己烷、环己烷、苯甲醚、全氟呋喃、N’N-二甲基甲酰胺、N’N-二甲基乙酰胺、二甲基亚砜。

6.根据权利要求3所述的制作方法，其特征在于，在基板上形成像素界定层是通过喷墨打印形成的。

7.根据权利要求3所述的制作方法，其特征在于，

所述基板包括像素区域与非像素区域，对基板进行图案化表面处理使像素区域的表面能与非像素区域的表面能不同；

在非像素区域形成所述像素分隔墙图案。

8.根据权利要求7所述的制作方法，其特征在于，液滴在所述基板像素区域的接触角和液滴在所述基板非像素区域的接触角相差大于30°。

9.根据权利要求7所述的制作方法，其特征在于，所述对基板进行图案化表面处理使得基板上像素区域的表面能与非像素区域的表面能大小不同具体为：

对基板进行自组装单分子层表面处理，在基板像素区域形成单分子层。

10.根据权利要求9所述的制作方法，其特征在于，对所述基板进行自组装单分子层表面处理，在基板像素区域形成单分子层具体为：

对基板进行自组装单分子层表面处理，在基板表面形成单分子层；

去除非像素区域的单分子层。

11.根据权利要求10所述的制作方法，其特征在于，所述对基板进行自组装单分子层表面处理，在基板像素区域形成单分子层具体为：在惰性气体的环境中，利用氟化硅烷对基板进行处理，在基板表面形成氟化硅烷的单分子层；

利用掩膜板对基板上的非像素区域进行紫外光照射去除非像素区域的氟化硅烷单分子层。

12.根据权利要求10或11所述的制作方法，其特征在于，在非像素区域形成像素分隔墙之后，还包括：

去除像素区域的单分子层。

13.根据权利要求12所述的制作方法，其特征在于，在惰性气体的环境中，利用氟化硅烷对基板进行处理，在基板表面形成氟化硅烷的单分子层；利用掩膜板对基板上的非像素区域进行紫外光照射，去除非像素区域的氟化硅烷单分子层，再在基板的非像素区域形成像素分隔墙之后，还包括：

去除像素区域的氟化硅烷。

14.根据权利要求13所述的制作方法，其特征在于，所述去除像素区域的氟化硅烷具体为：

至少对像素区域进行紫外光照射。

15.根据权利要求7所述的制作方法，其特征在于，所述利用喷墨打印在基板上形成像素界定层具体为：

通过喷墨打印的方法在非像素区域打印形成像素分隔墙材料的溶液；

待基板上打印的溶液形成咖啡环结构之后，对非像素区域打印的溶液进行固化处理，所述咖啡环结构形成为所述凹陷。

16.根据权利要求15所述的制作方法，其特征在于，基板上打印的溶液在20-40℃的环境中形成所述咖啡环结构。

17.一种显示基板，其特征在于，所述显示基板包括权利要求1或2所述的像素界定层。

18.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括权利要求17所述的显示基板。