[发明专利]研磨设备中具有第二阻流环的缓冲台装置

权利要求书

1.一种研磨设备中具有第二阻流环的缓冲台装置，从上而下依次设置有相应连接的缓冲台（10）、基座（20）、台板（30）及平台（40），所述平台（40）中有多个轴承（42）穿过台板（30）布置；通过相应管道（50）输送到基座（20）中心导流孔处的液体，能够在基座（20）表面上由第一阻流环（21）限定的范围内流动，进而向上通过缓冲台（10）中间位置的大量通孔，流动到缓冲台（10）的上方，对放置在缓冲台（10）上的晶圆表面进行相应处理；所述基座（20）与所述缓冲台（10）的周边对应设置有多对用来连接两者的第一连接孔（61），所述基座（20）与所述台板（30）的周边对应设置有多对用来连接两者的第二连接孔（62）；其特征在于，所述基座（20）表面上还设置有至少一个阻止液体从基座（20）的边缘流入所述第二连接孔（62）的第二阻流环（22），以阻止液体通过所述第二连接孔（62）流动到基座（20）下方的台板（30）及轴承（42）处。

2.如权利要求1所述的缓冲台装置，其特征在于，

在所述的基座（20）上，各个第二连接孔（62）位于第一阻流环（21）的外侧，第二阻流环（22）进一步设置在各个第二连接孔（62）的外侧，从而由所述第一阻流环（21）来防止液体从基座（20）的中心流入所述第二连接孔（62），而由所述第二阻流环（22）来防止液体从基座（20）的边缘流入所述第二连接孔（62）。

3.如权利要求2所述的缓冲台装置，其特征在于，

所述的基座（20）上，各个第一连接孔（61）位于所述第二阻流环（22）的外侧。

4.如权利要求2所述的缓冲台装置，其特征在于，

所述的基座（20）上，设置有多个同圆心布置的第二阻流环（22）。

5.如权利要求2所述的缓冲台装置，其特征在于，

所述第二阻流环（22）是O型环。

6.如权利要求1~5中任意一项所述的缓冲台装置，其特征在于，

所述基座（20）上开设有匹配的凹槽来嵌入安装所述的第二阻流环（22）。