[发明专利]供体基板、用其激光诱导热成像及制造OLED装置的方法

说明书

相关申请的交叉引用

本申请要求于2012年6月25日在韩国知识产权局（KIPO）提交的第10-2012-0068027号韩国专利申请的优先权，该申请公开的全部内容通过引用并入本文。

技术领域

示例性实施方式涉及供体基板、使用供体基板的激光诱导热成像方法以及使用供体基板制造有机发光显示装置的方法。更具体地，示例性实施方式涉及包括缓冲层的供体基板、使用包括缓冲层的供体基板的激光诱导热成像方法以及使用包括缓冲层的供体基板制造有机发光显示装置的方法。

背景技术

通常，有机发光显示装置可包括多个有机层，诸如有机发光层、空穴注入层、电子传输层等。在形成传统有机发光显示装置的有机层的工序中，喷墨印刷工序可使用有限的材料形成有机发光层之外的有机层，并且必须在用于喷墨印刷工序的基板上形成附加的结构。当使用用于形成有机层的沉积工序时，因为沉积工序会使用微小尺寸的金属掩模，所以难以对具有相对较大面积的有机发光显示装置应用沉积工序。

近来，激光诱导热成像工序已发展以用于形成有机发光显示装置的有机层。在传统的激光诱导热成像工序中，来自激光辐照设备的激光束可被转换为热能，供体基板的转移层可通过该热能而部分转移到有机发光显示装置的显示基板上，从而形成有机层图案。然而，对于传统的激光诱导热成像工序，热能会损坏有机发光显示装置的转移层或显示基板。

发明内容

示例性实施方式提供了能够减少热损坏的供体基板。

示例性实施方式提供了能够减弱热损坏的激光诱导热成像方法。

示例性实施方式提供了使用能够减少热损坏的供体基板制造有机发光显示装置的方法。

根据示例性实施方式，提供了一种供体基板，其包括衬底基板、光热转换层、缓冲层和转移层。光热转换层可设置在衬底基板上。缓冲层可设置在光热转换层上。缓冲层可包括至少一个具有多个孔的多孔层。转移层可设置在缓冲层上。

在示例性实施方式中，缓冲层还可包括至少一个中间层，该中间层设置在多孔层之上或之下。

在示例性实施方式中，缓冲层可包括两个多孔层，中间层设置在多孔层之间。

在示例性实施方式中，中间层可被设置在多孔层与转移层之间。

在示例性实施方式中，缓冲层还可包括至少一个散热层，散热层设置在中间层上或设置在中间层下。

在示例性实施方式中，散热层可包括选自由铝（Al）、银（Ag）、铬（Cr）、锡（Sn）、镍（Ni）、钛（Ti）、钴（Co）、锌（Zn）、金（Au）、铜（Cu）、钨（W）、钼（Mo）和铅（Pb）组成的组中的至少一个。

在示例性实施方式中，多孔层可包括选自由聚酰胺、聚酯、聚碳酸酯、聚丙烯、聚环氧、聚乙烯、聚苯乙烯和聚对苯二甲酸乙二酯组成的组中的至少一个

在示例性实施方式中，缓冲层可阻挡从光热转换层转移的热进入转移层中。

根据示例性实施方式，提供了一种激光诱导热成像方法。在该方法中，可提供供体基板，供体基板包括衬底基板、光热转换层、转移层和具有至少一个多孔层的缓冲层。可将供体基板层压到基底上。可将激光束辐射至供体基板上以通过转移层在基底上形成有机层图案。可将供体基板从基底移除。

在示例性实施方式中，缓冲层可包括至少两个多孔层和设置在多孔层之间的至少一个中间层。

根据示例性实施方式，提供了一种制造有机发光显示装置的方法。在该方法中可提供显示面板，显示面板包括开关结构和第一电极。可提供供体基板，供体基板包括衬底基板、光热转换层、转移层和具有至少一个多孔层的缓冲层。可将供体基板层压到基底上。可将激光束辐射至供体基板上以通过转移层在基底上形成有机层图案。可将供体基板从基底移除。

在示例性实施方式中，缓冲层可包括至少两个多孔层和设置在多孔层之间的至少一个中间层。

在示例性实施方式中，有机层图案可包括选自由有机发光层、空穴注入层、空穴传输层、电子注入层和电子传输层组成的组中的至少一个。

在示例性实施方式中，在将激光束辐射至供体基板的过程中，缓冲层可阻挡从光热转换层转移的热进入转移层中。

根据示例性实施方式，缓冲层可包括至少一个多孔层，该多孔层可包括多个孔。孔可具有较小的导热率，因而缓冲层可减少过多的热从光热转换层转移到转移层。因此，转移层和/或基板（其上可转移有机层图案）可以不被热能损坏。而且，缓冲层可包括可阻止转移层被有害气体或杂质劣化的中间层。

附图说明