[发明专利]壳体及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201310248644.8 申请日: 2013-06-21
公开(公告)号: CN104228182B 公开(公告)日: 2017-09-29
发明(设计)人: 张春杰 申请(专利权)人: 深圳富泰宏精密工业有限公司
主分类号: B32B9/04 分类号: B32B9/04;B32B15/04;C23C14/35;C23C14/32;C23C14/08;C23C14/14;C23C14/06
代理公司: 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司44334 代理人: 习冬梅
地址: 518109 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 壳体 及其 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种壳体及其制备方法,尤其涉及一种具有黄色釉膜外观的壳体及其制备方法。

背景技术

为了使电子装置的壳体具有丰富色彩,目前主要通过阳极氧化、烤漆、烤瓷等工艺制备装饰性涂层。相比这些传统工艺,PVD镀膜技术更加绿色环保,且采用PVD镀膜技术可在产品壳体表面形成具有金属质感的装饰性色彩层。

然而现有技术中,利用PVD镀膜技术于壳体表面形成的膜层的色彩非常有限,目前能够广泛制备和使用的PVD膜层主要为金黄色、黑色、白色等色系,而且现有的黄色系PVD膜层硬度较低,容易被磨损。

发明内容

有鉴于此,本发明提供一种具有黄色釉膜外观且耐磨损的壳体。

另外,本发明还提供一种上述壳体的制备方法。

一种壳体,包括基体,该壳体还包括形成于该基体表面的打底层、形成于打底层表面的过渡层及形成于该过渡层表面的色彩层,该过渡层为氧化铝层,该色彩层为碳氮化钛锆层,该色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于70至80之间,a*坐标介于10至15之间,b*坐标介于22至30之间。

一种壳体的制备方法,包括如下步骤:

提供基体;

通过磁控溅射方法在基体表面沉积打底层,该打底层为钛锆合金层;

通过多弧离子镀在所述打底层上沉积过渡层,该过渡层为氧化铝层;

通过磁控溅射方法在所述过渡层上沉积色彩层,该色彩层为碳氮化钛锆层,该色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于70至80之间,a*坐标介于10至15之间,b*坐标介于22至30之间。

上述壳体的制备方法通过磁控溅射方法形成所述由碳氮化钛锆组成的色彩层,使该色彩层呈现稳定的黄色并且具有很好的耐磨性能。该过渡层通过多弧离子镀形成,沉积速度快,且使过渡层与打底层具有较高的结合力,而色彩层17采用磁控溅射方法形成,使色彩层17比较细腻、光滑,具有仿陶瓷釉膜的外观。

附图说明

图1是本发明较佳实施例壳体的剖面示意图。

图2是本发明较佳实施例镀膜件的制备方法中所用真空镀膜设备的结构示意图。

主要元件符号说明

壳体10基体11打底层13过渡层15色彩层17真空镀膜设备100真空室20转架30真空抽气系统40弧源装置50磁控钛靶61磁控锆靶62铝靶63

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