[发明专利]壳体及其制备方法有效

申请号：	201310248644.8	申请日：	2013-06-21
公开（公告）号：	CN104228182B	公开（公告）日：	2017-09-29
发明（设计）人：	张春杰	申请（专利权）人：	深圳富泰宏精密工业有限公司
主分类号：	B32B9/04	分类号：	B32B9/04;B32B15/04;C23C14/35;C23C14/32;C23C14/08;C23C14/14;C23C14/06
代理公司：	深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司44334	代理人：	习冬梅
地址：	518109 广东省深圳市***	国省代码：	广东;44
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摘要：
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【权利要求书】：

1.一种壳体，包括基体，其特征在于：该壳体还包括形成于该基体表面的打底层、形成于打底层表面的过渡层及形成于该过渡层表面的色彩层，该过渡层为氧化铝层，该色彩层为碳氮化钛锆层，该色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于70至80之间，a*坐标介于10至15之间，b*坐标介于22至30之间。

2.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：该打底层为钛锆合金层。

3.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：该过渡层通过多弧离子镀形成。

4.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：该色彩层通过磁控溅射方法形成。

5.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：该基体为不锈钢或模具钢。

6.一种壳体的制备方法，包括如下步骤：

提供基体；

通过磁控溅射方法在基体表面沉积打底层，该打底层为钛锆合金层；

通过多弧离子镀在所述打底层上沉积过渡层，该过渡层为氧化铝层；

通过磁控溅射方法在所述过渡层上沉积色彩层，该色彩层为碳氮化钛锆层，该色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于70至80之间，a*坐标介于10至15之间，b*坐标介于22至30之间。

7.如权利要求6所述的壳体的制备方法，其特征在于：磁控溅射沉积该打底层采用钛靶和锆靶。

8.如权利要求6所述的壳体的制备方法，其特征在于：多弧离子镀沉积该过渡层采用铝靶及采用氧气为反应气体，氧气的流量为150sccm-200sccm。

9.如权利要求6所述的壳体的制备方法，其特征在于：磁控溅射沉积该色彩层采用钛靶和锆靶，采用氮气和乙炔为反应气体，氮气的流量为200sccm-230sccm，乙炔的流量为200sccm-230sccm。