[发明专利]光模块以及光模块的制造方法有效
| 申请号： | 201310242366.5 | 申请日： | 2013-06-18 |
| 公开（公告）号： | CN103513345B | 公开（公告）日： | 2017-09-05 |
| 发明（设计）人： | 依田薰;鸟海和宏 | 申请（专利权）人： | 西铁城时计株式会社 |
| 主分类号： | G02B6/42 | 分类号： | G02B6/42 |
| 代理公司： | 上海市华诚律师事务所31210 | 代理人： | 徐晓静 |
| 地址： | 日本国东京都西*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 模块 以及 制造 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种具有基板、接合到所述基板上的辅助基板以及光学元件的光模块的制造方法，其特征在于，具有如下工序：
采用具有支持层、活性层以及配置在所述支持层与所述活性层之间的BOX层的基材，通过蚀刻来去除所述活性层的一部分，由此来形成具有由所述活性层与所述BOX层形成的固定用槽的辅助基板；
在所述活性层上部淀积用于调整所述活性层的高度的高度调整层；
在所述高度调整层的上部淀积接合用Au层；
在所述固定用槽中，以使所述BOX层与光纤的上部接触的方式固定所述光纤；
在所述基板上形成Au微凸块；以及
设置于所述辅助基板的所述接合用Au层与设置于所述基板的所述Au微凸块在常温下被接合，由此所述光纤与所述光学元件被光耦合，
根据所淀积的所述高度调整层的厚度，将所述光纤的基准位置与所述高度调整层的底面的距离保持为一定。
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