[发明专利]一种应用双离子束镀膜技术在W表面制备W-Cr合金层的方法有效
| 申请号： | 201310232469.3 | 申请日： | 2013-06-13 |
| 公开（公告）号： | CN103498127A | 公开（公告）日： | 2014-01-08 |
| 发明（设计）人： | 苟成玲;冯红丽;朱开贵 | 申请（专利权）人： | 北京航空航天大学 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/16 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100191*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 应用 离子束 镀膜 技术 表面 制备 cr 合金 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种应用双离子束镀膜技术在W表面形成W-Cr合金层的方法，包括以W作为基底，以Cr做靶材，采用双离子束镀膜方式，其特征在于：所采用的方法是双离子束镀膜法，所用的基片是W块材，所用的靶材是Cr靶材，双离子束由溅射源和辅助溅射源，双离子束的两种溅射源是同种元素。
2.根据权利要求1所述的在W表面形成W-Cr合金层的方法，其特征在于:形成W-Cr合金层所用的材料是W基Cr靶，在W表面形成此合金。
3.根据权利要求2所述的在W表面形成W-Cr合金层的方法，其特征在于:所采用的方法是双离子束镀膜法，双离子束由溅射源和辅助溅射源，双离子束的两种溅射源是同种元素。
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