[发明专利]发光元件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201310226001.3 申请日: 2013-06-07
公开(公告)号: CN104241491B 公开(公告)日: 2018-12-28
发明(设计)人: 魏志豪 申请(专利权)人: 晶元光电股份有限公司
主分类号: H01L33/44 分类号: H01L33/44;H01L33/36;H01L33/62
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 陈小雯
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 发光 元件 及其 制造 方法
【说明书】:

发明公开一种制造发光元件的方法,其包含:提供一载体;施行一涂布步骤,包含涂布一膜层于此载体上;施行一烘烤步骤,包含于第一温度下烘烤此膜层;及重复一预定次数的涂布步骤和烘烤步骤以形成一厚膜层。

技术领域

本发明涉及一发光元件的制造方法,特别是涉及一具有一厚膜层的发光元件制造方法。

背景技术

发光二极管(light-emitting diode,LED)的发光原理是利用电子在n型半导体与p型半导体间移动的能量差,以光的形式将能量释放,这样的发光原理有别于白炽灯发热的发光原理,因此发光二极管被称为冷光源。此外,发光二极管具有高耐久性、寿命长、轻巧、耗电量低等优点,因此现今的照明市场对于发光二极管寄予厚望,将其视为新一代的照明工具,已逐渐取代传统光源,并且应用于各种领域,如交通号志、背光模块、路灯照明、医疗设备等。

图1a是现有的发光元件结构示意图。如图1a所示,现有的发光元件100,包含有一透明基板11、一位于透明基板11上的半导体叠层12,以及至少一电极14位于上述半导体叠层12上,其中上述的半导体叠层12由上而下至少包含一第一导电型半导体层120、一活性层122,以及一第二导电型半导体层124。

此外,上述的发光元件100还可以进一步地与其他元件组合连接以形成一发光装置(light-emitting apparatus)。图1b为现有的发光装置结构示意图,如图1b所示,一发光装置200包含一具有至少一电路150的次载体(sub-mount)21;至少一焊料(solder)22位于上述次载体21上,通过此焊料22将上述发光元件100粘结固定于次载体21上并使发光元件100的基板11与次载体21上的电路150形成电连接;以及,一电连接结构24,以电连接发光元件100的电极14与次载体21上的电路150;其中,上述的次载体21可以是导线架(leadframe)或大尺寸镶嵌基底(mounting substrate),以方便发光装置200的电路规划并提高其散热效果。

发明内容

为解决上述问题,本发明提供一发光元件的制造方法,其步骤包含:提供一载体;施行一涂布步骤,包含涂布一膜层于载体上;施行一烘烤步骤,包含于一第一温度下烘烤此膜层;及重复一预定次数的涂布步骤及烘烤步骤以形成一厚膜层。

本发明提供一发光元件的制造方法,其步骤还包含:提供一第二基板;形成一发光二极管外延结构于第二基板上;形成一接合层于厚膜层上,且通过此接合层将厚膜层与发光二极管外延结构接合;及移除第二基板。

附图说明

图1a为现有的发光元件结构示意图,图1b为现有的发光装置结构示意图;

图2a至图2g为本发明第一实施例制造流程结构示意图;

图3a至图3j为本发明第二实施例制造流程结构示意图;

图4为本发明第三实施例结构示意图。

符号说明

具体实施方式

为了使本发明的叙述更加详尽与完备,请参照下列描述并配合图2a-图4的附图。

图2a至图2g所示为本发明第一实施例制造流程结构示意图,是包含:提供一第一基板201,如图2a所示;通过有机金属化学气相沉积法(metal-organic chemical vapordeposition;MOCVD)于第一基板201上形成一发光二极管结构205,其中此发光二极管结构205由下而上包含一第一导电型半导体层202,一活性层203及一第二导电型半导体层204,如图2b所示。于本实施例中,一载体210包含第一基板201和发光二极管结构205。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于晶元光电股份有限公司,未经晶元光电股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310226001.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top