[发明专利]薄膜形成装置及利用该装置的薄膜形成方法

权利要求书

1.一种薄膜形成装置，包括：

掩模板，具有用于形成预定图案的多个阻断部和与所述阻断部交替设置的多个开放部，并且设置在形成有薄膜的基板上；以及

蚀刻源，通过所述掩模板的开放部喷射蚀刻气体，从而与所述图案相对应地蚀刻所述薄膜；

其中，所述掩模板具有用于向所述开放部周围吹入气体以使得所述蚀刻气体不会渗透至所述掩模板与所述基板之间的与所述阻断部对应的薄膜区域的气体吹动器。

2.根据权利要求1所述的薄膜形成装置，其中，所述掩模板还包括：

关闭件，用于调整所述开放部的尺寸。

3.根据权利要求1所述的薄膜形成装置，其中，

所述蚀刻气体是等离子气体。

4.根据权利要求1所述的薄膜形成装置，其中，

所述蚀刻源被固定设置成与所述掩模板的开放部相对应。

5.根据权利要求1所述的薄膜形成装置，其中，

所述蚀刻源用于对所述基板的整个表面喷射所述蚀刻气体。

6.根据权利要求1所述的薄膜形成装置，其中，

所述蚀刻源用于在所述掩模板上进行往返移动并喷射所述蚀刻气体。

7.根据权利要求1所述的薄膜形成装置，其中，所述蚀刻源包括：

喷射部，用于喷射所述蚀刻气体；

气帘部，用于在所述喷射部周边形成气帘；以及

排气部，用于向外部排出周围空气。

8.一种薄膜形成方法，包括：

在形成有薄膜的基板上设置具有用于形成预定图案的多个阻断部和与所述阻断部交替设置的多个开放部的掩模板；

由蚀刻源通过所述掩模板的开放部喷射蚀刻气体，从而与所述图案相对应地蚀刻所述薄膜；以及

运行所述掩模板所包含的气体吹动器以向所述开放部周围吹入气体，使得所述蚀刻气体不会渗透至所述掩模板与所述基板之间的与所述阻断部对应的薄膜区域。

9.根据权利要求8所述的薄膜形成方法，还包括：

通过所述掩模板所包含的关闭件来调整所述开放部的尺寸。

10.根据权利要求8所述的薄膜形成方法，其中，

所述蚀刻气体是等离子气体。

11.根据权利要求8所述的薄膜形成方法，其中，

所述蚀刻源与所述掩模板的开放部对应地喷射所述蚀刻气体。

12.根据权利要求8所述的薄膜形成方法，其中，

所述蚀刻源对所述基板的整个表面喷射所述蚀刻气体。

13.根据权利要求8所述的薄膜形成方法，其中，

所述蚀刻源在所述掩模板上进行往返移动并喷射所述蚀刻气体。

14.根据权利要求8所述的薄膜形成方法，其中，所述蚀刻源包括：

喷射部，用于喷射所述蚀刻气体；

气帘部，用于在所述喷射部周边形成气帘；以及

排气部，用于向外部排出周围空气。