[发明专利]一种高损伤阈值基频光吸收材料的制备方法

权利要求书

1.一种高损伤阈值基频光吸收材料的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：

1】准备原材料，其中原材料各组分的配比如下：

玻璃组分    摩尔百分数mol%

AlF₃：         31～35

BaF₂：         20～30

MgF₂           10～15

SiO₂           21～27

Y₂O₃：         3～4.5

FeO：          2～4

各组分配比之和为100%，根据以上摩尔配比计算出原材料各组分的质量，称取原材料各组分，混合均匀成粉料；

2】将混合均匀的粉料加入坩埚中，通过电熔炉加热熔融，熔制温度控制在1050-1150℃，并不断搅拌；

3】待熔融得到完全澄清的高温玻璃液且降温至900-950℃时，将高温玻璃液注入到已经预热好的模具中成型；

4】将成型的玻璃模具立刻放入马弗炉中，以10℃/小时速率进行退火，直到温度降到50℃，关闭马弗炉，降温至室温，最后取出成品，即得到高损伤阈值的基频光吸收玻璃。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：步骤（4）将玻璃放入马弗炉中，首先以玻璃的转变温度Tg保温2小时后，再以10℃/小时的速度退火。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：还包括在熔制过程中持续通入氮气。