[发明专利]在平板显示器面板的衬底上淀积有机物质的方法无效

专利信息
申请号: 201310201342.5 申请日: 2008-11-20
公开(公告)号: CN103276359A 公开(公告)日: 2013-09-04
发明(设计)人: 安泳雄;郑基泽;池钟烈;金相烈 申请(专利权)人: 爱德牌工程有限公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24;C23C14/12;C23C14/54;H01L51/56
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 黄纶伟;吕俊刚
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 平板 显示器 面板 衬底 上淀积 有机 物质 方法
【权利要求书】:

1.一种在平板显示器面板的衬底上淀积有机物质的方法,该方法包括:

将衬底提供至处理空间,并在放置于所述处理空间中的夹具上支撑所述衬底;

密封所述处理空间;

通过设于所述处理空间的第一端的第一口和第二端的第二口对所述处理空间排气,从而在所述处理空间中形成真空;

关闭所述第二口,从而终止通过该口的所述排气,而让所述第一口打开从而保持通过该口的所述排气;以及

通过散布装置将有机源注入所述处理空间中,并将所述有机源淀积于所述衬底上,其中,

通过在所述散布装置中形成的扩散空间接收并扩散来自源发生器的所述有机源;以及

在所述散布装置中形成的多个散布孔自所述扩散空间延伸进所述处理空间中,从而将所述有机源散布进入所述处理空间中,

其中,通过夹具移动模块支撑移动台并向上和向下移动所述移动台,从而使所述夹具被升高或降低。

2.如权利要求1所述的方法,进一步包括:

将掩模引入所述处理空间中,并在将所述衬底支撑在所述夹具上之后、密封所述处理空间之前,移动所述掩模使其接触所述衬底。

3.如权利要求2所述的方法,其中,移动所述掩模使其接触所述衬底包括:

测定所述衬底与所述掩模之间的对齐;以及

调整所述衬底与所述掩模之间的距离,并调整所述衬底相对于所述掩模的纵向位置,从而对齐所述衬底与所述掩模。

4.如权利要求3所述的方法,其中,调整所述衬底与所述掩模之间的距离包括相对于所述衬底单独地向上和向下移动所述掩模的边缘部分,并且,其中调整所述衬底相对于所述掩模的纵向位置包括相对于所述掩模在所述衬底的平面内纵向移动所述衬底。

5.如权利要求3所述的方法,其中,测定所述衬底与所述掩模之间的对齐包括比较所述衬底上的对齐标记和所述掩模上的对齐标记的位置。

6.如权利要求1所述的方法,进一步包括在向所述处理空间注入所述有机源并且将所述有机源淀积于所述衬底上之前,调整所述衬底与所述散布装置之间的距离。

7.如权利要求6所述的方法,其中,调整所述衬底与所述散布装置之间的距离包括相对于所述散布装置的散布表面向上或向下移动所述衬底。

8.如权利要求1所述的方法,其中,通过散布装置将有机源注入所述处理空间中并将所述有机源淀积于所述衬底上包括:

在源发生器中蒸发有机物质并生成所述有机源;

在混合器中混合所述有机源与载气,并将所述有机源供给所述散布装置;以及

通过在所述散布装置中形成的散布孔将所述有机源入注进所述处理空间中,并将所述有机源淀积于所述衬底上。

9.如权利要求8所述的方法,其中,所述第一口和所述衬底被置于所述处理空间的上端,并且所述第二口和所述散布装置被置于所述处理空间的下端,并且,其中,关闭所述第二口从而终止通过该口的所述排气,而让所述第一口打开从而保持通过该口的所述排气,该过程包括:

通过所述散布装置将所述有机源注入所述处理空间中;

由于由所述关闭的第二口和所述打开的第一口产生的气流路径,从所述处理空间的所述下部向着所述上部向上抽吸所述有机源;

当所述有机源经所述处理空间被向上抽吸经过所述衬底时,在所述衬底上淀积所述有机源;以及

通过所述打开的第一口对所述处理空间排气。

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