[发明专利]膜制造方法及膜制造装置

权利要求书

1.一种膜制造方法，其特征在于，具备：

成膜工序，在该工序中通过离子镀法在成膜对象物上形成氧化铟膜；及

退火工序，该工序在所述成膜工序之后，对所述氧化铟膜进行退火处理，

在所述成膜工序中，将腔室内的压力设为0.3Pa以下，将所述成膜对象物的温度设为100℃以下，

在所述退火工序中，在100℃以下对所述氧化铟膜进行退火处理。

2.根据权利要求1所述的膜制造方法，其特征在于，

在所述成膜工序中，将所述腔室内的水分分压设为5.8×10^－4Pa以下。

3.根据权利要求2所述的膜制造方法，其特征在于，

在所述成膜工序中，将所述腔室内的水分分压设为3.9×10^－4Pa以下。

4.一种膜制造装置，其特征在于，具备：

成膜装置，其通过离子镀法在成膜对象物上形成氧化铟膜；及

退火装置，其对通过所述成膜装置形成于所述成膜对象物上的所述氧化铟膜进行退火处理，

所述成膜装置具有：

真空腔室；

压力维持构件，其将成膜时的所述真空腔室内的压力维持在0.3Pa以下；及

温度维持构件，其将成膜时的所述成膜对象物的温度维持在100℃以下，

所述退火装置具有在100℃以下对所述氧化铟膜进行加热的退火炉。

5.根据权利要求4所述的膜制造装置，其特征在于，

所述成膜装置具有将成膜时的所述腔室内的水分分压维持在5.8×10^－4Pa以下的水分分压维持构件。

6.根据权利要求5所述的膜制造装置，其特征在于，

所述水分分压维持构件将成膜时的所述腔室内的水分分压维持在3.9×10^－4Pa以下。