[发明专利]一种石墨烯/聚吡咯复合正渗透膜的制备方法

权利要求书

1.一种石墨烯/聚吡咯复合正渗透膜的制备方法，其特征在于石墨烯/聚吡咯复合正渗透膜的制备方法是按以下步骤进行的：

一、制备超滤基膜：首先将聚合物溶于溶剂中，配置得到质量分数为18%～25%的聚合物溶液，然后利用浸没-沉淀法将质量分数为18%～25%的聚合物溶液制成超滤基膜；

二、制备吡咯-乙醇/氧化石墨烯溶液：首先氧化石墨烯超声分散于乙醇中，得到质量分数为0.01%～0.5%的氧化石墨烯/乙醇分散液，加入还原剂，反应2h～4h，得到石墨烯/乙醇溶液，然后加入吡咯，混匀后得到吡咯-乙醇/石墨烯溶液；所述加入的还原剂与质量分数为0.01%～0.5%的氧化石墨烯/乙醇分散液的质量比为1:(1～100)；所述的吡咯-乙醇/石墨烯溶液中吡咯的质量分数为0.5%～20%；

三、配置强氧化剂溶液：配置浓度为0.05mol·L^-1～2mol·L^-1的强氧化剂溶液；

四、制备含有吡咯的超滤基膜：将步骤一制备的超滤基膜浸入步骤二得到的吡咯-乙醇/氧化石墨烯溶液中，浸泡10min～100min，然后取出，晾干后得到含有吡咯的超滤基膜；

五、氧化处理：将步骤四得到的含有吡咯的超滤基膜浸入步骤三得到的浓度为0.05mol·L^-1～2mol·L^-1的强氧化剂溶液中，浸泡10min～1440min，取出后得到石墨烯/聚吡咯复合正渗透膜。

2.根据权利要求1所述的一种石墨烯/聚吡咯复合正渗透膜的制备方法，其特征在于步骤一中所述的聚合物为聚醚酰亚胺、聚砜、聚醚砜、聚丙烯腈或聚四氟乙烯；步骤一中所述的溶剂为N-甲基吡咯烷酮、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺或二甲基亚砜。

3.根据权利要求1所述的一种石墨烯/聚吡咯复合正渗透膜的制备方法，其特征在于步骤二中首先氧化石墨烯超声分散于乙醇中，得到质量分数为0.1%～0.3%的氧化石墨烯/乙醇分散液。

4.根据权利要求1所述的一种石墨烯/聚吡咯复合正渗透膜的制备方法，其特征在于步骤二中所述的还原剂为水合肼或硼氢化钠。

5.根据权利要求1所述的一种石墨烯/聚吡咯复合正渗透膜的制备方法，其特征在于步骤二中所述加入的还原剂与质量分数为0.01%～0.5%的氧化石墨烯/乙醇分散液的体积比为1:(5～10)。

6.根据权利要求1所述的一种石墨烯/聚吡咯复合正渗透膜的制备方法，其特征在于步骤二中所述的吡咯-乙醇/石墨烯溶液中吡咯的质量分数为1%～15%。

7.根据权利要求1所述的一种石墨烯/聚吡咯复合正渗透膜的制备方法，其特征在于步骤三中所述的浓度为0.05mol·L^-1～2mol·L^-1的强氧化剂溶液中强氧化剂为过硫酸铵、三氯化铁或过氧化氢，浓度为0.05mol·L^-1～2mol·L^-1的强氧化剂溶液中溶剂为水。

8.根据权利要求1所述的一种石墨烯/聚吡咯复合正渗透膜的制备方法，其特征在于步骤三中所述的强氧化剂溶液的浓度为0.5mol·L^-1～2mol·L^-1。

9.根据权利要求1所述的一种石墨烯/聚吡咯复合正渗透膜的制备方法，其特征在于步骤四中浸泡30min～80min。

10.根据权利要求1所述的一种石墨烯/聚吡咯复合正渗透膜的制备方法，其特征在于步骤五中浸泡30min～1000min。