[发明专利]一种通孔结构的纯α-SiC材料的制备方法有效
| 申请号: | 201310185393.3 | 申请日: | 2013-05-17 |
| 公开(公告)号: | CN103304251A | 公开(公告)日: | 2013-09-18 |
| 发明(设计)人: | 杨建锋;刘波波;史永贵;景文甲;徐照芸;王波;鲍崇高 | 申请(专利权)人: | 西安交通大学 |
| 主分类号: | C04B38/00 | 分类号: | C04B38/00;C04B35/565;C04B35/622 |
| 代理公司: | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人: | 朱海临 |
| 地址: | 710049 *** | 国省代码: | 陕西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 结构 sic 材料 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及多孔SiC材料制备方法,具体涉及一种具有通孔结构的纯α-SiC材料的制备方法。
背景技术
SiC多孔陶瓷具有密度低、热膨胀系数小、强度高、耐高温、耐腐蚀、抗氧化、抗热震和使用寿命长等优点,在冶金、化工、环保和能源等领域有广阔的应用前景。SiC通孔材料还具有密度小、刚度大、比表面积大、吸能减振性能好、消音降噪效果好、电磁屏蔽性能高等优点。
目前SiC多孔材料的制备技术有:1)氧化粘结法:以SiC、Al2O3、C为原料,C充当成孔剂,在1100-1500℃于空气中烧结,SiC表层被氧化生成SiO2玻璃相使颗粒相互粘结。2)燃烧合成(SHS):SHS是用1∶1的Si、C粉末为原料,压制成相对密度为50%的坯体,样品上下表面用钼线引出并接在直流电源上,然后在SHS装置中反应。3)聚碳硅烷转化法:把聚碳硅烷(PCS)作为粘结剂和陶瓷前驱体,进行裂解形成多孔陶瓷。4)碳热还原反应:用1∶3的Si3N4、C粉,添加4%Y2O3、6%Al2O3作烧结助剂。压坯先在N2(0.6MPa)中于1600℃预烧2-8诱导反应,然后在1750-1900℃烧结。5)化学气相浸渍与反应(CVI-R):CVI-R以碳化纸板为坯体,CH3SiCl3(MTS)为前驱体,MTS通过气相反应在坯体中的纤维表面沉积并转变成SiC,得到多孔陶瓷。6)溶胶凝胶/碳热还原:溶胶凝胶/碳热还原是把一定比例的H2O、HC和Si(OC2H5)4(TEOS)配制成SiO2溶胶,其中SiO2的质量分数为20%,然后采用真空抽气和加压浸渍法使SiO2溶胶浸渍到碳化的坯体中。7)液Si渗入法利用碳化木材坯体中连续的管胞结构作为液相传输的通道,于1600℃使液相Si渗入并原位反应生成SiC,没反应的Si残留在孔隙中。
以上制备方法制备出的SiC多孔材料均不是通孔结构的α-SiC材料,且存在孔隙形状不易控制和比表面积小等问题。开发通孔结构的α-SiC制备工艺以满足高孔隙度、高强度、孔径均匀且可控、性能稳定的SiC多孔材料并拓宽其应用领域有十分重要的意义。
发明内容
本发明的目的是提供一种通孔结构的纯α-SiC材料的制备工艺,以解决通孔结构的纯α-SiC材料制备困难的问题。
为达到上述目的,本发明采取以下技术方案予以实现:
一种通孔结构的纯α-SiC材料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
1)按碳化硅80~99.5%,B4C粉0.5~20%的质量百分比,将两组份称量,球磨混合均匀。
(2)将混合粉料装入石墨坩埚内;
(3)将装有粉料的石墨坩埚装入感应烧结炉的圆柱筒中,在坩埚顶部盖上石墨纸或石墨盖;
(4)将感应烧结炉的圆柱筒盖严,抽真空至炉内压力小于103Pa,充入氩气至炉内压力大于4×104Pa;
(5)将石墨坩埚加热至2100~2600℃,石墨纸处的温度为1900~2100℃,将炉内压力减至小于2×104Pa,保温0.5~4h,使B4C掺杂的SiC粉料在坩埚顶部石墨纸或石墨盖下面形核生长,得到纯α-SiC颗粒材料。
上述方案中,所述坩埚顶部石墨纸或石墨盖上面设置上碳毡保温层。所述将混合粉料装入石墨坩埚内的高度小于坩埚深度的2/3。
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