[发明专利]一种疏水性多孔分离膜的制备方法

权利要求书

1.一种疏水性多孔分离膜的制备方法，包括下述步骤：a）将疏水性单体与常规高分子制膜材料A共溶于溶剂中形成均相溶液，b）对此均相溶液进行γ射线辐照处理引发接枝反应，获得疏水性接枝聚合物，c）将该疏水性接枝聚合物与常规高分子制膜材料B共混获得共混物，d）采用共混物为成膜材料制备疏水性多孔分离膜；所述疏水性多孔分离膜应用于膜蒸馏、膜吸收、膜萃取、蒸汽渗透或油性料液澄清等过程。

2.根据权利要求1所述的制备方法，所述疏水性单体为含氟乙烯、含氟丙烯酸酯或含氟甲基丙烯酸酯，该单体分子中包含6～14个碳原子、9～21个氟原子。

3.根据权利要求1所述的制备方法，所述常规高分子制膜材料A为聚醚砜、聚砜、聚偏氟乙烯、聚丙烯腈或聚氯乙烯。

4.根据权利要求1所述的制备方法，所述溶剂为能同时溶解疏水性单体和常规高分子制膜材料A的极性有机溶剂或复合溶剂。

5.根据权利要求1所述的制备方法，所述均相溶液中常规高分子制膜材料A的质量百分比为1～10%，其中疏水性单体的重量是常规高分子制膜材料A的1～20倍。

6.根据权利要求1所述的制备方法，所述接枝聚合物的接枝率为1～65%。

7.根据权利要求1所述的制备方法，所述常规高分子制膜材料B为聚醚砜、聚砜、聚偏氟乙烯、聚丙烯腈或聚氯乙烯。

8.根据权利要求1所述的制备方法，所述共混方法包括固相共混和液相共混，其中，共混物中常规制膜材料B的质量百分比为0.1～95%。

9.根据权利要求1所述的制备方法，所述制备疏水性多孔膜的方法包括溶致相分离方法、热致相分离方法、熔融拉伸方法、静电纺丝方法和表面涂覆方法，其中疏水性多孔膜为平片式膜、中空纤维式膜、卷式膜或管式膜。

10.利用权利要求1～9中任意一种方法制备的疏水性多孔分离膜。