[发明专利]一种二氧化硅蚀刻液及其制备方法无效
| 申请号： | 201310180562.4 | 申请日： | 2013-05-16 |
| 公开（公告）号： | CN104164237A | 公开（公告）日： | 2014-11-26 |
| 发明（设计）人： | 殷福华;朱龙;邵勇 | 申请（专利权）人： | 江阴江化微电子材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C09K13/08 | 分类号： | C09K13/08 |
| 代理公司： | 无 | 代理人： | 无 |
| 地址： | 214000 江苏省无*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 二氧化硅 蚀刻 及其 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种二氧化硅蚀刻液，其特征在于，包括以下重量百分比的组合物：氟化铵溶液20％～30％，氢氟酸3％～6％，余量为超纯水。
2.根据权利要求1所述的一种二氧化硅蚀刻液，其特征在于，所述氟化铵溶液的浓度为40％(重量百分比)。
3.根据权利要求1所述的一种二氧化硅蚀刻液，其特征在于，所述氢氟酸的浓度为49％(重量百分比)。
4.根据权利要求1所述的一种二氧化硅蚀刻液的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
(1)称取一定量的氟化铵溶液，在搅拌下加入氢氟酸，充分搅拌15分钟；然后加超纯水，搅拌45分钟；其中氟化铵的重量百分比为20％～30％，氢氟酸的重量百分比为3％～6％，余量为水；
(2)将制得的混合物经0.5μm的过滤器过滤，以去除混合物中粒径大于0.5μm的有害粒子，即得二氧化硅蚀刻液。
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