[发明专利]化学机械抛光设备有效
申请号: | 201310180314.X | 申请日: | 2013-05-15 |
公开(公告)号: | CN103231303A | 公开(公告)日: | 2013-08-07 |
发明(设计)人: | 路新春;何永勇;沈攀;许振杰;王同庆;裴召辉;徐海滨;张莉瑶;郭振宇;雒建斌 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | B24B37/04 | 分类号: | B24B37/04;B24B37/27;B24B37/34 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 宋合成;黄德海 |
地址: | 100084 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 化学 机械抛光 设备 | ||
技术领域
本发明涉及一种化学机械抛光设备。
背景技术
现有的化学机械抛光设备存在清洗效果差的缺陷。
发明内容
本发明旨在至少在一定程度上解决上述技术问题之一或至少提供一种有用的商业选择。为此,本发明的一个目的在于提出一种化学机械抛光设备。
为了实现上述目的,根据本发明的实施例提出一种化学机械抛光设备。所述化学机械抛光设备包括:用于存放晶圆的晶盒装载装置;用于输送晶圆的晶圆转移装置;用于将晶圆从所述晶盒装载装置搬运到所述晶圆转移装置的第一机械手,所述第一机械手设在所述晶盒装载装置与所述晶圆转移装置之间;化学机械抛光机;用于放置晶圆的晶圆过渡装置;用于将晶圆从所述晶圆转移装置搬运到所述化学机械抛光机且从所述化学机械抛光机搬运到所述晶圆过渡装置的第二机械手,所述第二机械手设在所述晶圆转移装置、所述晶圆过渡装置与所述化学机械抛光机之间;晶圆清洗装置,所述晶圆清洗装置包括具有第一容纳腔的第一本体、设在所述第一容纳腔内竖直地支撑晶圆的第一晶圆支撑组件和设在所述第一本体上的晶圆清洗组件,所述第一容纳腔的第一侧壁上设有沿左右方向贯通所述第一容纳腔的第一侧壁的第一槽口;晶圆刷洗装置,所述晶圆刷洗装置包括具有第二容纳腔的第二本体以及设在所述第二容纳腔内的晶圆刷洗组件和竖直地支撑晶圆的第二晶圆支撑组件,所述第二容纳腔的第一侧壁上设有沿左右方向贯通所述第二容纳腔的第一侧壁的第二槽口;晶圆干燥装置,所述晶圆干燥装置包括具有第三容纳腔的第三本体以及设在所述第三容纳腔内的晶圆干燥组件和竖直地支撑晶圆的第三晶圆支撑组件,所述第三容纳腔的第一侧壁上设有沿左右方向贯通所述第三容纳腔的第一侧壁的第三槽口,所述第三容纳腔的第二侧壁上设有沿左右方向贯通所述第三容纳腔的第二侧壁的第四槽口;和用于在所述晶圆过渡装置、所述晶圆清洗装置、所述晶圆刷洗装置和所述晶圆干燥装置之间搬运晶圆的第三机械手,所述第三机械手设在所述晶圆过渡装置、所述晶圆清洗装置、所述晶圆刷洗装置和所述晶圆干燥装置之间。
根据本发明实施例的化学机械抛光设备通过在所述晶圆清洗装置、所述晶圆刷洗装置和所述晶圆干燥装置内设置可竖直地支撑晶圆的所述第一晶圆支撑组件、所述第二晶圆支撑组件和所述第三晶圆支撑组件,从而在清洗、刷洗和所述干燥晶圆时使所述晶圆处于竖直工作状态,清洗掉的污染物和颗粒可以沿着所述晶圆的两个表面(所述晶圆的两个表面是指所述晶圆的两个圆形侧面,以下同)竖直地流下,而不会留在所述晶圆的两个表面上,由此可以大大地提高所述晶圆的清洗效果,避免了清洗不彻底和二次污染的可能。
而且,根据本发明实施例的化学机械抛光设备通过设置沿左右方向贯通所述第一容纳腔的第一侧壁的第一槽口、沿左右方向贯通所述第二容纳腔的第一侧壁的第二槽口、沿左右方向贯通所述第三容纳腔的第一侧壁的第三槽口和沿左右方向贯通所述第三容纳腔的第二侧壁的第四槽口,从而可以从所述晶圆清洗装置、所述晶圆刷洗装置和所述晶圆干燥装置的侧面竖直地取放所述晶圆,晶圆传输机构(所述第一机械手和所述第三机械手及其驱动装置)上的污染物和颗粒不会进入到所述晶圆清洗装置、所述晶圆刷洗装置和所述晶圆干燥装置的内部,避免了对所述晶圆的污染。
因此,根据本发明实施例的化学机械抛光设备具有清洗效果好等优点。
另外,根据本发明上述实施例的化学机械抛光设备还可以具有如下附加的技术特征:
根据本发明的一个实施例,所述第一晶圆支撑组件和所述第二晶圆支撑组件中的每一个包括:第一驱动轮和第二驱动轮;电机,所述电机设在所述第一本体上且与所述第一驱动轮和所述第二驱动轮相连用于驱动所述第一驱动轮和所述第二驱动轮旋转;压轮,所述压轮与所述第一驱动轮和所述第二驱动轮协作支撑所述晶圆且将所述晶圆沿竖直方向定向;和压轮驱动件,所述压轮驱动件设在所述第一本体上且与所述压轮相连以驱动所述压轮上下移动。
这样在清洗所述晶圆、刷洗所述晶圆和干燥所述晶圆时所述晶圆可以沿竖直方向定向,因此从所述晶圆上清洗和刷洗下来的颗粒和化学药剂会随着清洗液(例如去离子水)一起沿所述晶圆的两个表面竖直地向下流动,而不会留在所述晶圆的两个表面上,从而可以大大地提高所述晶圆的洁净度。
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