[发明专利]化学机械抛光设备有效
申请号: | 201310180314.X | 申请日: | 2013-05-15 |
公开(公告)号: | CN103231303A | 公开(公告)日: | 2013-08-07 |
发明(设计)人: | 路新春;何永勇;沈攀;许振杰;王同庆;裴召辉;徐海滨;张莉瑶;郭振宇;雒建斌 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | B24B37/04 | 分类号: | B24B37/04;B24B37/27;B24B37/34 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 宋合成;黄德海 |
地址: | 100084 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 化学 机械抛光 设备 | ||
1.一种化学机械抛光设备,其特征在于,包括:
用于存放晶圆的晶盒装载装置;
用于输送晶圆的晶圆转移装置;
用于将晶圆从所述晶盒装载装置搬运到所述晶圆转移装置的第一机械手,所述第一机械手设在所述晶盒装载装置与所述晶圆转移装置之间;
化学机械抛光机;
用于放置晶圆的晶圆过渡装置;
用于将晶圆从所述晶圆转移装置搬运到所述化学机械抛光机且从所述化学机械抛光机搬运到所述晶圆过渡装置的第二机械手,所述第二机械手设在所述晶圆转移装置、所述晶圆过渡装置与所述化学机械抛光机之间;
晶圆清洗装置,所述晶圆清洗装置包括具有第一容纳腔的第一本体、设在所述第一容纳腔内竖直地支撑晶圆的第一晶圆支撑组件和设在所述第一本体上的晶圆清洗组件,所述第一容纳腔的第一侧壁上设有沿左右方向贯通所述第一容纳腔的第一侧壁的第一槽口;
晶圆刷洗装置,所述晶圆刷洗装置包括具有第二容纳腔的第二本体以及设在所述第二容纳腔内的晶圆刷洗组件和竖直地支撑晶圆的第二晶圆支撑组件,所述第二容纳腔的第一侧壁上设有沿左右方向贯通所述第二容纳腔的第一侧壁的第二槽口;
晶圆干燥装置,所述晶圆干燥装置包括具有第三容纳腔的第三本体以及设在所述第三容纳腔内的晶圆干燥组件和竖直地支撑晶圆的第三晶圆支撑组件,所述第三容纳腔的第一侧壁上设有沿左右方向贯通所述第三容纳腔的第一侧壁的第三槽口,所述第三容纳腔的第二侧壁上设有沿左右方向贯通所述第三容纳腔的第二侧壁的第四槽口;和
用于在所述晶圆过渡装置、所述晶圆清洗装置、所述晶圆刷洗装置和所述晶圆干燥装置之间搬运晶圆的第三机械手,所述第三机械手设在所述晶圆过渡装置、所述晶圆清洗装置、所述晶圆刷洗装置和所述晶圆干燥装置之间。
2.根据权利要求1所述的化学机械抛光设备,其特征在于,所述第一晶圆支撑组件和所述第二晶圆支撑组件中的每一个包括:
第一驱动轮和第二驱动轮;
电机,所述电机设在所述第一本体上且与所述第一驱动轮和所述第二驱动轮相连用于驱动所述第一驱动轮和所述第二驱动轮旋转;
压轮,所述压轮与所述第一驱动轮和所述第二驱动轮协作支撑所述晶圆且将所述晶圆沿竖直方向定向;和
压轮驱动件,所述压轮驱动件设在所述第一本体上且与所述压轮相连以驱动所述压轮上下移动。
3.根据权利要求1所述的化学机械抛光设备,其特征在于,晶圆干燥组件包括:
水箱,所述水箱可上下移动地设在所述第三本体上,所述水箱的顶壁上设有沿上下方向贯通所述顶壁的槽口用于通过晶圆;
水箱驱动件,所述水箱驱动件设在所述第三本体上且与所述水箱相连以便驱动所述水箱上下移动;和
IPA干燥系统,所述IPA干燥系统设在所述水箱上用于干燥所述晶圆。
4.根据权利要求1所述的化学机械抛光设备,其特征在于,所述第三晶圆支撑组件包括:
支架,所述支架设在所述第三本体上;
下夹持爪支架,所述下夹持爪支架为L形,所述下夹持爪支架的竖直肢与所述支架相连且所述竖直肢的下端伸入所述水箱内;
第一上夹持爪和第二上夹持爪;
上夹持爪驱动件,所述上夹持爪驱动件设在所述支架和所述下夹持爪支架中的一个上且与所述第一上夹持爪和所述第二上夹持爪相连以便驱动所述第一上夹持爪和所述第二上夹持爪上下移动;和
下夹持爪,所述下夹持爪设在所述下夹持爪支架的水平肢上,其中所述下夹持爪与所述第一上夹持爪和第二上夹持爪协作支撑所述晶圆且将所述晶圆沿竖直方向定向。
5.根据权利要求1所述的化学机械抛光设备,其特征在于,所述晶圆清洗组件包括:
第一兆声喷头和第二兆声喷头,所述第一兆声喷头和所述第二兆声喷头在所述晶圆的轴向上间隔开地设在所述第一容纳腔内以便分别用于清洗所述晶圆的两个表面;和
兆声喷头驱动件,所述兆声喷头驱动件设在所述第一本体上且与所述第一兆声喷头和所述第二兆声喷头相连以便驱动所述第一兆声喷头和所述第二兆声喷头沿所述晶圆的径向平移。
6.根据权利要求1所述的化学机械抛光设备,其特征在于,所述晶圆刷洗组件包括第一毛刷和第二毛刷,所述第一毛刷和所述第二毛刷相对地且间隔开地设置以便分别用于刷洗所述晶圆的两个表面。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于清华大学,未经清华大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310180314.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。