[发明专利]帘子布织造装置的经纱张力调整装置的经纱施力方法及经纱张力调整装置有效

专利信息
申请号: 201310174234.3 申请日: 2013-05-13
公开(公告)号: CN103422232A 公开(公告)日: 2013-12-04
发明(设计)人: 伊藤直幸;角谷和人;安宅威 申请(专利权)人: 津田驹工业株式会社
主分类号: D03D47/12 分类号: D03D47/12;D03D51/20
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 雒运朴
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 帘子布 织造 装置 经纱 张力 调整 施力 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种织造包括帘织部分和平纹部分的帘子布织物的帘子布织造装置的经纱张力调整装置,其中,所述帘子布织造装置包括供给经纱的经轴架装置、包括用于使从所述经轴架装置引出的多根经纱的张力均匀的张力调节辊的经纱张力调整装置、以及通过经所述经纱张力调整装置供给的经纱织造帘子布织物的织机。

背景技术

帘子布织物是指用于制造成为橡胶轮胎骨架的轮胎胎体层和带束层的橡胶增强用织布的一种,包括纬纱密度比一般织物稀疏很多的帘织部分和纬纱密度比帘织部分密集的平纹部分。

如图17所示,织造帘子布织物的帘子布织造装置91主要结构包括:供给经纱7的经轴架装置2、调整经纱7的张力的经纱张力调整装置92、进行织造的织机4以及对所织造的帘子布织物进行卷取的按类卷取装置5。经纱7被织机4所具备的送经装置4a所牵引,从经轴架装置2的多个线轴2a同时被引出,但是,由于从多个线轴2a的各个引出的各经纱7的张力互不相同,因此,由设置在经轴架装置2和织机4之间的经纱张力调整装置92使从经轴架装置2引出的经纱7排成一横列,形成片状,且使得各经纱7的张力大致均匀。

经纱张力调整装置92具有张力调节辊93,用于使从经轴架装置2引出的多根经纱7的张力均匀,并将张力保持在一定范围。张力调节辊93以载置在从经轴架装置2引出并排成一横列的片状经纱7上的状态被设置,通过自重使经纱7的张力均匀,且在上下方向取得与各经纱7的张力的合力(以下,简称为“经纱的张力”)平衡的位置。因此,在织机4的织造中经纱7的张力发生变动时,张力调节辊93上下移动以维持其自重和经纱7的张力的平衡。又,经纱张力调整装置92在比所述张力调节辊93更靠经纱7的上游侧(经轴架装置2侧)具备停经片装置94,该停经片装置94通过探测随着经纱7因断经失去张力而导致停经片销掉下来检测断经,经纱张力调整装置92监视从经轴架装置2向经纱张力调整装置92供给的经纱7的断经。

但是,如上所述,帘子布织物的帘织部分的纬纱密度约为2.5英寸/根,比平纹部分或其他普通织物稀疏很多。因此,在帘子布织造装置91中,织造帘织部分时处于如下状态:经纱7的送经速度非常快,经纱7以非常高的速度从经轴架装置2被引出,线轴2a以高速旋转。在这样的状态下,若在帘织部分的织造中发生什么异常情况(例如:引纬错误等织造不良)而从控制装置对构成帘子布织造装置91的各装置输出停止信号,则在织机4中,送经装置4a较快地停止,而在经轴架装置2中,随着经纱7的引出而高速旋转的线轴2a由于自身的惯性不会立即停止旋转,因此,当织机4停止而使送经装置4a对经纱7的牵引停止之后,经纱7仍因惯性从经轴架装置2朝经纱调整装置92侧送出,产生所谓“经纱超位”的状态。

若以这样的“经纱超位”状态从经轴架装置2送出经纱7,则朝经纱张力调整装置92送出的多余的经纱7主要在张力调节辊93的上游侧松弛。其原因是,在织机4停止的状态下,织机4的送经装置4a没有牵引经纱7,吸收经纱7的松弛仅由张力调节辊93承担,但是,由于经纱7卷挂在存在于张力调节辊93上游侧的导辊95上,由导辊95来转换经纱7的路径方向,因此,导辊95和经纱7之间所产生的滑动阻力导致张力调节辊93的自重所产生的牵引力难以影响到导辊95上游侧的经纱7。

若经纱7在张力调节辊93的上游侧松弛,经纱7的张力处于减小状态,则与此同时导致所述停经片装置94的停经片销的位置下沉,处于与发生断经时一样的状态、即停经片销与接触杆(电极)处于接触的状态。其结果,尽管未发生断经,但停经片装置94仍输出断经检测信号,给织机4的再起动带来障碍。

作为应对此类问题的公知技术,有一种是专利文献1中记载的技术。专利文献1中记载的技术为:当织机停止时,由致动器强制性地将张力调节辊拉下,吸收由于经纱超位引起的经纱松弛。具体地说,将流体压力缸连接在支承张力调节辊的支承部件上,在织机停止时,通过使流体压力缸动作,对张力调节辊作用张力调节辊的自重所产生的力,此外还作用将张力调节辊拉下的力,强制性地将张力调节辊拉下,增加张力调节辊和位于张力调节辊两侧的导辊之间的经纱路径长度,吸收由于经纱超位引起的经纱松弛。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开平11-117149号公报

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