[发明专利]水稻非损伤性源库调控方法有效

专利信息
申请号: 201310166485.7 申请日: 2013-05-08
公开(公告)号: CN103270941A 公开(公告)日: 2013-09-04
发明(设计)人: 张卫星;邵国胜;沈希宏;朱智伟;闵捷;廖西元 申请(专利权)人: 中国水稻研究所
主分类号: A01H1/02 分类号: A01H1/02;A01G16/00;A01G13/00;A01C21/00
代理公司: 杭州浙科专利事务所(普通合伙) 33213 代理人: 吴秉中
地址: 310006 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 水稻 损伤 性源库 调控 方法
【权利要求书】:

1.水稻非损伤性源库调控方法,其特征在于通过水稻不育系与其同型保持系搭配种植并隔离授粉或错期播栽并隔离授粉进行库调控,从而构建源库水平呈梯度差异的水稻植株样本。

2.如权利要求1所述的水稻非损伤性源库调控方法,其特征在于通过水稻不育系与其同型保持系搭配种植并隔离授粉或错期播栽并隔离授粉进行库调控,辅以不同施氮处理或遮阳网覆盖处理的源库调控,从而构建源库水平呈梯度差异的水稻植株样本。

3.如权利要求1所述的水稻非损伤性源库调控方法,其特征在于所述的水稻不育系与其同型保持系按照行比1:1、2:1或4:2进行搭配种植。

4.如权利要求1所述的水稻非损伤性源库调控方法,其特征在于所述的错期播栽条件为:不育系与其同型保持系同期播栽、早播3天同日移栽或早播6天同日移栽。

5.如权利要求2所述的水稻非损伤性源库调控方法,其特征在于所述的施氮处理条件为:0kg/667m2、6kg/667m2或12kg/667m2,并按5:3:2的基蘖穗肥比例进行施肥。

6.如权利要求2所述的水稻非损伤性源库调控方法,其特征在于所述的遮阳网覆盖处理条件为:不遮光、遮光50%或遮光75%。

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