[发明专利]一种阵列基板及其制备方法、显示装置无效
申请号: | 201310164803.6 | 申请日: | 2013-05-07 |
公开(公告)号: | CN103293776A | 公开(公告)日: | 2013-09-11 |
发明(设计)人: | 张家祥 | 申请(专利权)人: | 北京京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/1339 | 分类号: | G02F1/1339;G02F1/1333;H01L27/12;H01L21/77 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100176 北京市大*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 阵列 及其 制备 方法 显示装置 | ||
1.一种阵列基板,包括基板、设置在基板上的开关单元;其特征在于,还包括:
设置在基板上的钝化层、以及设置在所述钝化层上的隔垫物;其中所述隔垫物与所述开关单元对应。
2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述钝化层和所述隔垫物的材质为有机树脂材料。
3.根据权利要求1或2所述的阵列基板,其特征在于,所述开关单元为薄膜晶体管。
4.根据权利要求1或2所述的阵列基板,其特征在于,还包括公共电极。
5.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求1至4任一项所述的阵列基板。
6.一种阵列基板的制备方法,包括在基板上形成开关单元,其特征在于,还包括:
在基板上形成钝化层,以及形成与所述开关单元对应的隔垫物。
7.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,所述钝化层和所述隔垫物的材质为有机树脂材料。
8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,所述在基板上形成钝化层,以及形成与所述开关单元对应的隔垫物包括:
在基板上形成由正性或负性有机树脂材料制成的薄膜;
采用灰色调掩膜板或半色调掩膜板对形成有所述薄膜的基板进行曝光,经显影后形成覆盖所述基板的所述钝化层、以及与所述开关单元对应的所述隔垫物。
9.根据权利要求6至8任一项所述的方法,其特征在于,所述开关单元为薄膜晶体管。
10.根据权利要求6至8任一项所述的方法,其特征在于,还包括:在基板上形成公共电极。
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