[发明专利]一种阵列基板及其制作方法、显示装置

权利要求书

1.一种阵列基板，包括栅线，数据线，设置在所述栅线和数据线限定的像素区域内的像素电极和薄膜晶体管，以及公共电极；其特征在于，还包括：

第一传感线和第二传感线，所述第一传感线和所述第二传感线上下层平行对应设置，且均与所述公共电极上的电极条交叉设置；

其中，所述第一传感线位于所述第二传感线所在的图案层与所述公共电极所在的图案层之间，所述第二传感线与所述公共电极电连接。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，

所述第一传感线与所述数据线同层设置，且与所述数据线平行；

所述第二传感线与所述栅线同层设置，且与所述栅线不连通。

3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，

所述第一传感线与所述栅线同层设置，且与所述栅线平行；

所述第二传感线与所述数据线同层设置，且与所述数据线不连通。

4.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述公共电极上的各个电极条电连接。

5.一种阵列基板的制作方法，其特征在于，包括：

在透明基板上制作金属薄膜，通过构图工艺形成包括栅极、栅线和第二传感线的图案，所述栅线与所述第二传感线交叉设置，且不连通；

在制作有栅极、栅线和第二传感线的基板上依次制作带过孔的栅绝缘层和半导体层；

在制作有半导体层的基板上制作金属薄膜，通过构图工艺形成包括源漏极、数据线和第一传感线的图案，所述数据线与所述第一传感线平行，所述第一传感线位于所述第二传感线的正上方；

在制作有源漏极、数据线和第一传感线的基板上依次制作像素电极、带过孔的钝化层和公共电极；所述公共电极通过所述钝化层的过孔和所述栅绝缘层的过孔与所述第二传感线连接。

6.一种阵列基板的制作方法，其特征在于，包括：

在基板上制作金属薄膜，通过构图工艺形成包括源漏极、数据线和第二传感线的图案，所述数据线与所述第二传感线平行；

在制作有源漏极、数据线和第二传感线的基板上制作像素电极、半导体层和带过孔的栅绝缘层；

在制作有栅绝缘层的基板上制作金属薄膜，通过构图工艺形成包括栅极、栅线和第一传感线的图案，所述栅线与所述第一传感线平行，所述第一传感线位于所述第二传感线的正上方；

在制作有栅极、栅线和第一传感线的基板上依次制作带过孔的钝化层和公共电极；所述公共电极通过所述钝化层的过孔和所述栅绝缘层的过孔与所述第二传感线连接。

7.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-4任意一项所述的阵列基板。