[发明专利]导电薄膜的消影方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种导电薄膜的消影方法。

背景技术

目前，透明导电薄膜主要有金属氧化物薄膜、纳米金属薄膜、导电聚合物薄膜、碳纳米管或者石墨烯薄膜。其中铟锡氧化物(ITO)薄膜最为广泛应用，但铟资源面临紧缺的局面，而且ITO导电薄膜的真空溅镀的工艺较为复杂，工艺温度也较高。随着技术的发展，可以采用涂布工艺的纳米金属薄膜，例如纳米银透明导电薄膜成为ITO导电薄膜有力的替代材料。纳米银线透明导电薄膜包括银线和聚合物基质，银线在基质中散布或嵌入，形成导电的网格结构。采用涂布工艺的银线金属薄膜是将银线和聚合物混溶于溶剂中，然后以旋涂或者其他方式涂布于基材上。

图案化导电薄膜是指将基材上的透明导电膜层进行线路化，如黄光蚀刻、激光刻蚀、丝印等，形成一系列的驱动元件，同时具有透明和导电性。图案化透明导电薄膜作为驱动电路广泛应用于各种器件中，如显示器、触摸屏以及薄膜光电池中的透明电极，也可以用作防静电层及电磁波屏蔽层。

图案化导电薄膜分为电极区和非电极区，由于纳米金属薄膜的电极区和非电极区同时在透过率、雾度、折射率存在着光学差异，电极区的边缘易被人眼看到，当此薄膜应用于触摸屏及其他器件时，导致屏幕雾化及显示图像特别是文字时产生模糊感、颗粒感和扭曲感。

因此，有必要对现有的技术进行改进，使电极边缘区域不可见(或者称为消影)。

发明内容

本发明的目的在于提供一种使电极区边缘区域不可见的导电薄膜的消影方法。

为解决实现上述目的，本发明采用如下技术方案：一种导电薄膜的消影方法，所述导电薄膜包括基板、位于基板上的电极区及位于基板上的非电极区，所述电极区形成所述导电薄膜的图案，所述电极区包括基质及纳米金属，在形成所述导电薄膜的过程中，所述消影方法包括如下步骤：

(a). 利用光刻胶保护膜来保护所述电极区；

(b). 将填充液涂布于非电极区后，进行固化；

(c). 用腐蚀液去除所述光刻胶保护膜，使所述非电极区和所述电极区的折射率相同或相近、雾度相差≤3%、透过率相差≤1%。

作为本发明进一步改进的技术方案：所述填充液包括溶剂、基质物及纳米颗粒；所述溶剂为水或乙醇；所述基质物为聚甲基丙烯酸酯、聚丙烯酸酯和聚丙烯腈、聚乙烯醇、聚酯、聚氯乙烯、羟丙基甲基纤维素、或羧甲基纤维素钠；所述纳米颗粒为金属氧化物颗粒或金属纳米颗粒。

作为本发明进一步改进的技术方案：所述溶剂的含量为95%~99%，所述基质物的含量为0.01%~3%。

作为本发明进一步改进的技术方案：所述基质物的含量为0.05%~1%。

作为本发明进一步改进的技术方案：所述金属氧化物颗粒为二氧化硅、二氧化钛、氧化铁、或氧化锌。

作为本发明进一步改进的技术方案：所述纳米颗粒的大小为0.1μm ~100μm。

作为本发明进一步改进的技术方案：所述纳米颗粒的大小为1μm ~20μm。

作为本发明进一步改进的技术方案：所述填充液包括溶剂、基质物及表面活性剂；所述溶剂为水或乙醇；所述基质物为聚甲基丙烯酸酯、聚丙烯酸酯和聚丙烯腈、聚乙烯醇、聚酯、聚氯乙烯、羟丙基甲基纤维素、或羧甲基纤维素钠。

作为本发明进一步改进的技术方案：所述溶剂的含量为98%~99.9%，所述基质物的含量为0.1%~2%，所述表面活性剂的含量为1ppm~20ppm。

作为本发明进一步改进的技术方案：所述基质物的含量为0.1%~1%。

作为本发明进一步改进的技术方案：经过步骤(c)之后，所述非电极区具有与所述电极区同种基质的绝缘纳米金属网格；或者经过步骤(c)之后，所述非电极区具有与所述电极区的基质相同或相近折射率和雾度的聚合物薄膜。

作为本发明进一步改进的技术方案：所述纳米金属网格的方阻大于10⁶Ω/□。

作为本发明进一步改进的技术方案：所述填充液的配制在室温下进行，将大小为1μm ~ 10μm、含量为10%的纳米银颗粒水溶液，取X1*20g溶于去离子水的混合溶液中，搅拌，再将X1*3g聚乙烯醇添加至上述溶液中，搅拌；所述X1为比例系数且数值相同。

作为本发明进一步改进的技术方案：所述填充液的配制在室温下进行，将大小为1μm ~ 10μm、含量为10%的纳米银颗粒水溶液，取X2*20g溶于去离子水的混合溶液中，搅拌，再将X2*0.1g羟丙基甲基纤维素(HPMC)添加至上述溶液中，搅拌；所述X2为比例系数且数值相同。