[发明专利]具有塑料基底的有源矩阵显示器和其他电子器件

说明书

本申请是申请日为2007年8月7日、申请号为200780029807.6、名称为“具有塑料基底的有源矩阵显示器和其他电子器件”的申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及在塑料基底上制造电子器件如有源矩阵显示器器件(active matrix display devices)。

背景技术

有源矩阵显示器的最常见形式是有源矩阵液晶显示器(AMLCD)。AMLCD器件通常是在0.7mm厚的大的玻璃基底上制造的。对于室(cell)来说，需要两个板，从而所完成的显示器恰好高于1.4mm厚。移动电话(mobile phone)制造商，和一些便携式计算机(laptop computer)制造商，需要更薄的和更轻的显示器，所完成的室可以在HF(氢氟酸)溶液中薄化，一般地至约0.8mm厚。移动电话制造商理想地希望显示器是甚至更薄的，但是已经发现通过这种方法制造的低于0.8mm厚的室太易碎了。

HF薄化不具有吸引力，因为其是一种使用难于安全且经济地处理的危险化学品的不经济的方法。由于玻璃的点蚀(pitting)，在刻蚀过程期间还存在一些产率损失。

早已认识到轻质、结实(rugged)且薄的塑料AMLCD作为替代物的吸引力。最近，对塑料显示器的兴趣甚至进一步地提高，这部分地是由于在移动电话和PDA中彩色AMLCD使用的增加。最近，对在塑料基底上的AMLCD和有机发光二极管(OLED)显示器进行了许多研究。除了这种兴趣外，仍然存在着对于大批量生产塑料显示器的合理的制造路线的需求。

对于塑料基底上的薄膜晶体管(TFT)或显示器的制造，已经报道了许多不同的方法。

一种技术描述于WO05/050754中，其中制造了基底装置，其包括刚性载体基底和在该刚性载体基底上的塑料基底。在塑料基底上形成像素电路和显示器室(display cells)后，从塑料基底释放刚性载体基底。这使得能够使用基本上常规的基底处理、加工和室制造。WO05/050754还描述了其它已知的在塑料基底上制造电子器件的方法。

在WO05/050754中建议的释放方法是激光剥离(laser lift-off)方法，基底材料是通过旋转-涂覆施加的聚酰亚胺。聚酰亚胺的优点之一是它的高温稳定性。

然而使用聚酰亚胺存在着若干缺点，特别地，聚酰亚胺是淡黄色的，并且旋转-涂覆的聚酰亚胺材料是双折射的。

这两种缺点暗示着不能制造透射(透反)显示器，也不能在没有很大困难的情况下制造偏振依赖性(polarization-dpendent)显示器(如LCD)。

因此需要透明基底材料，其具有高温稳定性，是透明的，并且优选是非双折射的(nonbirefringent)。典型的透明材料如聚碳酸酯或硅酮(silicones)并不吸收足够的UV能量以便通过激光释放方法来剥离。

发明内容

根据本发明，提供了一种制造薄膜电子器件的方法，该方法包括：

-使用湿法流延方法(wet casting process)，将塑料涂层施加到刚性载体基底，所述塑料涂层形成塑料基底并且包括透明塑料材料和UV吸收添加剂；

-在所述塑料基底之上形成薄膜电子元件；和

-从所述塑料基底释放所述刚性载体基底。

通过用UV吸收剂掺杂基底的塑料材料，本发明提供了制造适于激光释放方法(laser release process)的透明基底材料的方法。这种UV吸收剂在剥离激光的波长(例如308-351nm，或355nm)中以非常高的吸收系数μ(例如＞10⁴cm^-1)进行吸收。

优选选择所述UV吸收剂使得其不在透明基底材料中导致任何双折射，并且因此透明基底能够被制造成是非双折射的。

所述塑料能够湿法流延。所述塑料层能够例如通过旋涂方法(spin-on process)被施加到刚性基底，并且该塑料基底然后变成最终的器件基底。或者，所述塑料能够通过用刮刀展涂或通过印刷技术如平版印刷(offset litho)或丝网印刷(silk screen printing)来施加。

所述UV吸收添加剂可以包括以下中的一种或多种：

2-(-2H-苯并三唑-2-基)-4，6-双(1-基(menthyl)-1-苯基乙基)苯酚；茋；苯被供电子和吸电子基团取代的茋；p-二甲基氨基苯甲酸乙酯；和2，5-二苯基唑。

优选地，所述塑料材料是非双折射的。

所述塑料材料可以包括聚碳酸酯或硅酮。