[发明专利]含双键的两性离子化合物与偶联剂KH-570共聚物及其制法和用途

权利要求书

1.一种含双键的两性离子化合物与偶联剂KH-570共聚物，其特征是：它是以γ-（甲基丙烯酰氧）丙基三甲氧基硅烷(KH-570)及两性离子单体聚合，形成结构规整、分散度低的共聚物。它有如下结构： 

或或

所述的两性离子单体是具有甲基丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氨基或苯乙烯基的磷铵两性离子单体，其结构分别如下： 

磷铵： 

其中：R为：

或或。

2.一种制备权利要求1所述的含双键的两性离子化合物与偶联剂KH-570共聚物的方法，其特征是它包括下列步骤： 

步骤1.将γ-（甲基丙烯酰氧）丙基三甲氧基硅烷单体、烯键聚合引发 剂、卤化亚铜和配体溶于乙醇后加入到反应器中，经脱氧气和水汽处理后，密闭反应器，所加反应物的物质的量之比为：γ-（甲基丙烯酰氧）丙基三甲氧基硅烷单体:烯键聚合引发剂:卤化铜:配体=10～50:1:0.2～2:0.1～1，在30～100℃下反应2～24小时，冷却至室温； 

步骤2.将步骤1得到的反应混合物在惰性气体的保护下加入与步骤1的γ-（甲基丙烯酰氧）丙基三甲氧基硅烷单体物质的量500～10倍的两性离子单体，密闭反应器，在30～100℃下反应24～48小时，冷却至室温； 

步骤4.将步骤3得到的共聚物溶液溶于无水乙醇中，以经过活化的阳离子交换树脂为固定相，无水乙醇为流动相，以柱层析法洗脱除去催化剂，即得含双键的两性离子化合物与偶联剂KH-570共聚物。 

3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征是：所述的烯键聚合引发剂是2-溴-2-甲基丙酰溴或2-溴异丁酸乙酯；所述的卤化亚铜是氯化亚铜或溴化亚铜；所述的配体是联二吡啶或五甲基二亚乙基三胺。 

4.权利要求1所述的含双键的两性离子化合物与偶联剂KH-570共聚物在制备抗感染隐形眼镜中的应用。 

5.一种抗感染隐形眼镜的制法，其特征是：它是将权利要求1所述的含双键的两性离子化合物与偶联剂KH-570共聚物溶于醇类溶剂中，配成1/100～5/100（mg/mL）的溶液，将洗净的隐形眼镜浸没在上述的共聚物溶液中，或将上述的共聚物溶液喷涂于洗净或再经处理的隐形眼镜表面，在30～60℃固化2小时，在隐形眼镜表面形成2～200纳米的薄膜，得到表面抗感染的隐形眼镜。 

上述的抗感染隐形眼镜的制法，在所述的配制的含双键的两性离子化 合物与偶联剂KH-570共聚物醇类溶剂中，可以加入少量三乙胺作为催化剂，以增加涂料固化和与材料表面结合的速度。