[发明专利]化妆材料

权利要求书

1.一种化妆材料，其特征在于，调配有糖化合物，所述糖化合物是通过使分子量为500～5000000的糖类的羟基、由下述通式(1)所代表的含异氰酸酯基有机聚硅氧烷、及由下述通式(2)所代表的含异氰酸酯基有机化合物反应来获得，

式(1)中，R¹、R²、R³及R⁴分别为选自碳数1～8的烷基、碳数1～8的氟取代烷基、及碳数6～12的芳基的基团，n为1～10，a为0～3；

O＝C＝N-R⁵ (2)

式(2)中，R⁵为选自碳数3～30的烷基、碳数6～30的芳基、碳数6～30的芳烷基、及由下述通式(3)所表示的有机基的基团；

-R⁶-X-R⁷ (3)

式(3)中，R⁶为碳数2～20的2价烃基，R⁷为碳数1～30的烷基，X为由-NHCONH-或-NHCOO-所表示的基团。

2.如权利要求1所述的化妆材料，其中，前述糖化合物是相对于前述糖类的羟基1摩尔，分别使前述含异氰酸酯基有机聚硅氧烷及前述含异氰酸酯基有机化合物，在摩尔比率为0.03～0.7的范围内反应而成。

3.如权利要求1所述的化妆材料，其中，前述糖类为普鲁兰多糖或纤维素。

4.如权利要求2所述的化妆材料，其中，前述糖类为普鲁兰多糖或纤维素。

5.如权利要求1所述的化妆材料，其中，在前述通式(1)中，n为3，R¹、R²、R³及R⁴为甲基。

6.如权利要求2所述的化妆材料，其中，在前述通式(1)中，n为3，R¹、R²、R³及R⁴为甲基。

7.如权利要求3所述的化妆材料，其中，在前述通式(1)中，n为3，R¹、R²、R³及R⁴为甲基。

8.如权利要求4所述的化妆材料，其中，在前述通式(1)中，n为3，R¹、R²、R³及R⁴为甲基。

9.如权利要求1至8中的任一项所述的化妆材料，其中，在前述通式(2)中，R⁵为碳数3～30的烷基。

10.如权利要求1至8中的任一项所述的化妆材料，其中，所含有的前述糖化合物，占化妆材料总质量的0.05～40质量％。

11.如权利要求9所述的化妆材料，其中，所含有的前述糖化合物，占化妆材料总质量的0.05～40质量％。

12.如权利要求1至8中的任一项所述的化妆材料，其中，进一步包含水，且为乳液形态。

13.如权利要求1至8中的任一项所述的化妆材料，其中，进一步包含硅酮油、烃油、乙二醇、酯油、甘油酯油、紫外线吸收剂、及这些混合物中的任一种。

14.如权利要求1至8中的任一项所述的化妆材料，其中，进一步包含粉状体，且为分散有该粉状体的液状、膏状、及固体状中的任一种。