[发明专利]化妆材料有效
| 申请号: | 201310116160.8 | 申请日: | 2013-04-03 |
| 公开(公告)号: | CN103356403B | 公开(公告)日: | 2017-07-28 |
| 发明(设计)人: | 龟井正直 | 申请(专利权)人: | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号: | A61K8/898 | 分类号: | A61K8/898;A61Q19/00;A61Q19/10;A61Q1/10;A61Q1/12;A61Q1/08;A61Q1/04;A61Q5/02;A61Q5/12;A61Q5/06;A61Q17/04 |
| 代理公司: | 隆天知识产权代理有限公司72003 | 代理人: | 张永康,向勇 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 化妆 材料 | ||
技术领域
本发明涉及一种化妆材料,所述化妆材料调配有含有有机聚硅氧烷的糖化合物。
背景技术
作为由糖类及具有反应基的有机聚硅氧烷來获得的含有机聚硅氧烷糖化合物,已知有以下的形成方法:1)使具有伯氨基的有机聚硅氧烷与醛糖酸(aldonic acid)或糖醛酸(uronic acid)经过脱水环化的内酯化合物进行开环反应的方法(专利文献1);2)使含异氰酸酯基硅氧烷与普鲁兰多糖(pullulan)的羟基反应的方法(专利文献2);3)使环氧官能性硅氧烷与氨基官能性糖衍生物反应的方法(专利文献3);及,4)在非质子性有机溶剂的存在下,使具有羧酸酐基的有机聚硅氧烷与多糖类反应来形成半酯的方法(专利文献4)。
在专利文献2中,记载有一种硅酮化普鲁兰多糖,所述硅酮化普鲁兰多糖是通过糖化合物即普鲁兰多糖与含异氰酸酯基有机聚硅氧烷反应而获得,并且已知一种包含此硅酮化多糖化合物的化妆材料(专利文献5、6等)。此化妆材料的耐水性、耐油性、防止2次附着效果较高,使用感也优异,生物分解性和生物安全性等方面也没有问题。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开昭62-68820号公报
专利文献2:日本特开平8-134103号公报
专利文献3:日本特开平10-330489号公报
专利文献4:日本特开2004-156004号公报
专利文献5:日本特开平10-29910号公报
专利文献6:日本特开平10-29921号公报
发明内容
然而,实际上在使用感方面存在问题,如感觉到涂匀性的恶劣和粘性等。
并且,此硅酮化多糖化合物是溶解于低分子量的硅酮油或轻质石蜡等非极性油剂中并调配于化妆材料中,但由于只利用硅酮化而难以溶解于极性油中,因此关于包含极性油的化妆材料,并不满足经时稳定性、化妆持续性。
本发明是有鉴于上述问题点而完成,其目的在于提供一种化妆持续性优异的化妆材料,可以改善涂匀性的恶劣和粘性等使用感,并改善对非极性油即硅酮油或轻质石蜡等、以及紫外线吸收剂、酯油、及天然动植物油等极性油的溶解性,关于包含极性油的化妆材料,也没有粘性,且保存稳定性优异,并可以防止化妆附着于衣服等上(2次附着)。
为了解决上述课题,本发明提供一种化妆材料,其特征在于,调配有糖化合物,所述糖化合物是通过使糖类的羟基、由下述通式(1)所代表的含异氰酸酯基有机聚硅氧烷、及由下述通式(2)所代表的含异氰酸酯基有机化合物反应来获得,
(式中,R1、R2、R3及R4分别为选自碳数1~8的烷基、碳数1~8的氟取代烷基、及碳数6~12的芳基的基团,n为1~10,a为0~3);
O=C=N-R5(2)
[式中,R5为选自碳数3~30的烷基、碳数6~30的芳基、碳数6~30的芳烷基、及由下述通式(3)所表示的有机基的基团;
-R6-X-R7(3)
(式中,R6为碳数2~20的2价烃基,R7为碳数1~30的烷基,X为由-NHCONH-或-NHCOO-所表示的基团)]。
这种本发明的化妆材料的涂匀性良好,而且无粘性等,使用感优异。并且,化妆材料的具有形成皮膜的特征,即便当化妆材料包含极性油时,也能成为一种化妆持续性优异的化妆材料,其无粘性,且保存稳定性优异,并可以防止化妆附着于衣服等上(2次附着)。
并且,优选为,前述糖化合物是相对于前述糖类的羟基1摩尔,分别使前述含异氰酸酯基有机聚硅氧烷及前述含异氰酸酯基有机化合物,在摩尔比率为0.03~0.7的范围内反应而成。
如果是以这种摩尔比率反应而成的糖化合物,那么调配有这种糖化合物的化妆材料的使用感更加优异。并且,通过在上述范围内调整摩尔比率,可以获得适合所使用的油剂的组合。
并且,优选为,前述糖类为普鲁兰多糖或纤维素。
由于普鲁兰多糖或纤维素具有皮膜性、造膜性和强韧性的特性,因此,调配有由这些糖类所获得的糖化合物而成的化妆材料,在防止2次附着效果和化妆持续性等上尤其优异。
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