[发明专利]一种钕铁硼磁体的电镀与气相沉积复合防护方法

权利要求书

1.一种钕铁硼磁体的电镀与气相沉积复合防护方法，其特征在于包括以下步骤：

①将钕铁硼磁体进行预处理；

②将预处理后的钕铁硼磁体进行气相沉积处理；

③将气相沉积处理后的钕铁硼磁体进行表面电镀处理。

2.根据权利要求1所述的一种钕铁硼磁体的电镀与气相沉积复合防护方法，其特征在于所述的步骤②中的气相沉积膜层的厚度至少为1μm。

3.根据权利要求1或2所述的一种钕铁硼磁体的电镀与气相沉积复合防护方法，其特征在于所述的步骤③中电镀镀层的厚度为5～35μm。

4.根据权利要求1所述的一种钕铁硼磁体的电镀与气相沉积复合防护方法，其特征在于所述的步骤①中的预处理包括除油、除锈和活化处理。

5.根据权利要求1所述的一种钕铁硼磁体的电镀与气相沉积复合防护方法，其特征在于所述的步骤②中的气相沉积处理过程是镀镍、镀铜、镀钛、镀镍铁、镀铁、镀铝、镀锌、镀银、镀不锈钢和镀铬或它们中至少两种的复合。

6.根据权利要求1所述的一种钕铁硼磁体的电镀与气相沉积复合防护方法，其特征在于所述的步骤③中的电镀处理过程是电镀镍、电镀锌和电镀铜或它们中至少两种的复合。