[发明专利]用于放大激光束的设备有效

专利信息
申请号: 201310103406.8 申请日: 2013-03-28
公开(公告)号: CN103368055B 公开(公告)日: 2018-05-18
发明(设计)人: J·舒尔茨;O·米勒 申请(专利权)人: 通快激光系统半导体制造有限公司
主分类号: H01S3/10 分类号: H01S3/10;H01S3/03
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 蔡胜利
地址: 德国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 放大 激光束 设备
【权利要求书】:

1.一种用于放大激光束(10)的设备(21),所述设备包括:

至少一个放大器室(22),在所述放大器室中具有激光激活材料;

至少一个透射光学部件(23),所述透射光学部件界定所述至少一个放大器室(22),且相对于与激光束(10)的光轴(26)垂直定向的平面成倾斜角度(α)地布置;

以及检测单元(24),所述检测单元布置成能够检测在透射光学部件(23)处向后反射的激光束(27),

其特征在于,设置至少一个偏转镜(29),所述偏转镜将向后反射的激光束(27)偏转到检测单元(24)上,

偏转镜(29)布置成所述偏转镜既偏转向后反射的激光束(27)也偏转激光束(10),以及

激光束(10)和被偏转的激光束(10′)形成偏转平面,且透射光学部件(23)布置成向后反射的激光束(27)在偏转平面之外投射在偏转镜(29)上。

2.如权利要求1所述的设备(21),其特征在于,所述激光激活材料是激光激活气体。

3.如权利要求1或2所述的设备(21),其特征在于,所述倾斜角度(α)最小为1°,且最大为20°。

4.如权利要求1或2所述的设备(21),其特征在于,所述检测单元(24)布置在所述至少一个放大器室(22)的外部。

5.如前述权利要求2所述的设备(21),其特征在于,邻近放大器室(22)设置至少一个附加的放大器室(22)或至少一个附加室(28),所述至少一个附加的放大器室(22)或至少一个附加室(28)包括的气体成分和/或压力不同于放大器室(22)中的气体成分和/或压力。

6.如前述权利要求1或2所述的设备(21),其特征在于,所述至少一个透射光学部件(23)相对于直接邻接的放大器室(22)或附加室(28)界定所述至少一个放大器室(22)。

7.如权利要求1或2所述的设备(21),其特征在于,偏转镜(29)中的一个布置在放大器室(22)中的一个中。

8.如权利要求5所述的设备(21),其特征在于,偏转镜(29)中的一个布置在附加室(28)中的一个中。

9.如权利要求1或2所述的设备(21),其特征在于,第二激光束(31)沿着与激光束(10)相反的方向行进,且第二激光束(31)由透射光学部件(23)部分地反射,且第二激光束(31)由另外的检测单元(24)检测。

10.如权利要求1或2所述的设备(21),其特征在于,透射光学部件(23)是金刚石窗。

11.如权利要求1所述的设备(21),其特征在于,透射光学部件(23)中的至少一个包括在至少第一表面(23a)上的第一防反射涂层。

12.如权利要求11所述的设备(21),其特征在于,所述第一防反射涂层具有最小0.01%和最大0.5%的残余反射度。

13.如权利要求11所述的设备(21),其特征在于,透射光学部件(23)包括在第二表面(23b)上的第二防反射涂层,且所述第一防反射涂层和所述第二防反射涂层具有不同的反射度。

14.如权利要求11所述的设备(21),其特征在于,透射光学部件(23)包括在第二表面(23b)上的第二防反射涂层,且所述第一防反射涂层和所述第二防反射涂层具有相同的反射度。

15.如权利要求13或14所述的设备(21),其特征在于,所述第一和/或第二防反射涂层具有最小0.01%和最大0.5%的残余反射度。

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