[发明专利]一种提高近红外高反膜激光损伤阈值的镀制方法无效
| 申请号： | 201310102800.X | 申请日： | 2013-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN103215550A | 公开（公告）日： | 2013-07-24 |
| 发明（设计）人： | 鲍刚华;程鑫彬;宋智;焦宏飞;王占山 | 申请（专利权）人： | 同济大学 |
| 主分类号： | C23C14/30 | 分类号： | C23C14/30;C23C14/08;G02B1/10 |
| 代理公司： | 上海正旦专利代理有限公司 31200 | 代理人： | 张磊 |
| 地址： | 200092 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 提高 红外 高反膜 激光 损伤 阈值 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种提高光学薄膜激光损伤阈值的镀制方法，其特征在于具体步骤如下：
(1)将基板清洗干净，然后利用高纯氮气吹干后放入镀膜机内；
(2)控制镀膜机内真空室的本底真空度为1×10-3Pa～3×10-3Pa，将基板加热至200度，并恒温80分钟；
(3) 固定基板与蒸发源HfO2和SiO2的相对位置，采用电子束交替蒸发HfO2和SiO2；控制蒸镀时的氧分压为1.0E-2Pa～3.0E-2Pa，速率为0.05nm/s～0.3nm/s；
(4)待真空室内温度自然冷却至室温后取出镀制好的样品。
2.根据权利要求1所述的提高光学薄膜激光损伤阈值的镀制方法，其特征在于步骤(3)中通过控制基板与蒸发源HfO2和SiO2的相对位置，使膜料分子在基板上沉积的入射角度大于30°，控制蒸镀HfO2时的氧分压为3.0E-2Pa,速率为0.05nm/s，蒸镀SiO2时的氧分压为1.0E-2Pa,速率为0.3nm/s。
3.根据权利要求1所述的提高光学薄膜激光损伤阈值的镀制方法，其特征在于所述基板是光学玻璃或晶体。
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