[发明专利]曝光方法及曝光设备

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种曝光方法及实现该曝光方法的曝光设备。

背景技术

液晶显示器（Liquid Crystal Display，LCD）由于具有画面稳定、图像逼真、消除辐射、节省空间以及节省能耗等优点，现已占据了平面显示领域的主导地位。TFT-LCD（Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display，薄膜晶体管液晶显示器）是目前主流的液晶显示器，而薄膜晶体管阵列基板（TFT-Thin Film Transistor）以及彩膜基板是其显示面板的主要构成部件。阵列基板以及彩膜基板的制备效率往往关系着整个显示装置的生产节拍。

在阵列基板以及彩膜基板的制备过程中，光刻工艺是非常重要的；如图2中所示，目前的光刻工艺通常包括：涂敷光刻胶（图示中步骤S1’-S2’）、前烘、曝光（图示中步骤S3’）、显影（图示中步骤S4’）以及后烘。其中，涂敷光刻胶是在前工序成膜后的基板上涂敷光刻胶；前烘是预热光刻胶，以及去除光刻胶的水分，增加光刻胶与基板之间的附着力；曝光是采用曝光光线通过掩膜板照射在光刻胶上，将光刻胶感光；显影是通过显影液将感光部分的光刻胶去除掉，从而形成所需要的图案；后烘是将图案中未感光的光刻胶固化，同时增加与基板之间的附着力。

现有技术中的曝光设备主要包括用于提供平行曝光光线的光源、掩膜板以及曝光机台等；如图1中所示，涂覆有光刻胶3的基板2放置在曝光机台4上，光源提供的平行曝光光线5经过掩膜板1后垂直照射在基板2上，使其形成与掩膜板一致的图案。这样，每次使用一块掩膜板只能够针对一块基板进行曝光，在一个生产节拍周期内仅仅能够完成一块基板的曝光；同时，光源提供的曝光光线仅仅只有很少的一部分被利用，其他大部分光线都是没有得到充分利用而损失掉。因此，现有技术中的曝光方法以及曝光设备不但曝光效率低下，而且造成了能源的浪费。

发明内容

（一）要解决的技术问题

本发明的目的在于提供一种能够有效的提高曝光效率以及降低曝光成本的曝光方法；进一步的，本发明还提供了一种实现上述曝光方法的曝光设备。

（二）技术方案

本发明技术方案如下：

一种曝光方法，包括：

将至少两块涂覆有光刻胶的透明基板置于一块掩膜板下方；所有所述基板与所述掩膜板平行；

平行曝光光线垂直照射所述掩膜板，沿曝光光线传播方向依次对各个基板上的光刻胶进行曝光。

优选的，所述曝光方法还包括：

所述曝光光线透过基板对下一块基板上的光刻胶进行曝光前，修正所述曝光光线传播方向，使之形成平行光并垂直照射所述下一块基板。

优选的，将所述基板根据设定位置放置。

本发明还提供了一种实现上述曝光方法的曝光设备：

一种曝光设备，包括：

用于提供平行曝光光线的光源，沿所述曝光光线传播方向依次设置的掩膜板以及至少两个基板承载机构；所述掩膜板以及基板承载机构均垂直于所述曝光光线传播方向。

优选的，相邻的两个基板承载机构之间设置有修正所述曝光光线传播方向的光学调整机构。

优选的，所述光源包括紫外线平行面光源。

优选的，所述光学调整机构包括凹透镜。

优选的，位于所述曝光光线传播路径上的基板承载机构包括石英玻璃基质的透明曝光机台。

优选的，还包括用于将基板搬运至所述基板承载机构上的基板转运机构。

优选的，所述基板转运机构包括基板夹送单元；所述基板夹送单元包括夹持基板正反面的第一夹具以及夹持基板侧面的第二夹具。

优选的，所述曝光光线垂直向下照射，位于最底部的曝光机台上开设有若干通孔，且该曝光机台底部设置有可穿过所述通孔的基板支撑柱；所述基板转运机构还包括机械手臂；所述机械手臂将基板搬运至穿过所述通孔的基板支撑柱后，所述基板支撑柱缩回所述通孔；所述基板夹送单元用于为其他曝光机台搬运基板。

（三）有益效果