[发明专利]曝光方法及曝光设备

权利要求书

1.一种曝光方法，其特征在于，包括：

将至少两块涂覆有光刻胶的透明基板置于一块掩膜板下方；所有所述基板与所述掩膜板平行；

平行曝光光线垂直照射所述掩膜板，沿曝光光线传播方向对各个基板上的光刻胶进行曝光。

2.根据权利要求1所述的曝光方法，其特征在于，所述曝光方法还包括：

所述曝光光线透过基板对下一块基板上的光刻胶进行曝光前，修正所述曝光光线传播方向，使之形成平行光并垂直照射所述下一块基板。

3.根据权利要求1或2所述的曝光方法，其特征在于，将所述基板根据设定位置放置。

4.一种曝光设备，其特征在于，包括：

用于提供平行曝光光线的光源，沿所述曝光光线传播方向依次设置的掩膜板以及至少两个基板承载机构；所述掩膜板以及基板承载机构均垂直于所述曝光光线传播方向。

5.根据权利要求4所述的曝光设备，其特征在于，相邻的两个基板承载机构之间设置有修正所述曝光光线传播方向的光学调整机构。

6.根据权利要求4或5所述的曝光设备，其特征在于，所述光源包括紫外线平行面光源。

7.根据权利要求6所述的曝光设备，其特征在于，所述光学调整机构包括凹透镜。

8.根据权利要求4-5或7任意一项所述的曝光设备，其特征在于，位于所述曝光光线传播路径上的基板承载机构包括石英玻璃基质的透明曝光机台。

9.根据权利要求8所述的曝光设备，其特征在于，还包括用于将基板搬运至所述基板承载机构上的基板转运机构。

10.根据权利要求9所述的曝光设备，其特征在于，所述基板转运机构包括基板夹送单元；所述基板夹送单元包括夹持基板正反面的第一夹具以及夹持基板侧面的第二夹具。

11.根据权利要求10所述的曝光设备，其特征在于，所述曝光光线垂直向下照射，位于最底部的曝光机台上开设有若干通孔，且该曝光机台底部设置有可穿过所述通孔的基板支撑柱；所述基板转运机构还包括机械手臂；所述机械手臂将基板搬运至穿过所述通孔的基板支撑柱后，所述基板支撑柱缩回所述通孔；所述基板夹送单元用于为其他曝光机台搬运基板。