[发明专利]样本制备装置和样本制备方法无效
| 申请号: | 201310083008.4 | 申请日: | 2013-03-15 |
| 公开(公告)号: | CN103308356A | 公开(公告)日: | 2013-09-18 |
| 发明(设计)人: | 满欣 | 申请(专利权)人: | 日本株式会社日立高新技术科学 |
| 主分类号: | G01N1/28 | 分类号: | G01N1/28;H01J37/317;H01J37/28 |
| 代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 李辉;黄纶伟 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 样本 制备 装置 方法 | ||
1.一种样本制备装置,所述样本制备装置包括:
样本台,所述样本台用于支撑样本;
聚焦离子束镜筒,所述聚焦离子束镜筒用于将聚焦离子束施加到所述样本并且对所述样本进行处理;以及
照射区域设置单元,所述照射区域设置单元用于设置聚焦离子束照射区域,所述聚焦离子束照射区域包括:
第一照射区域,所述第一照射区域用于形成将被电子束照射以检测背向散射电子的观察区段;以及
第二照射区域,所述第二照射区域用于形成倾斜表面,所述倾斜表面连接到所述观察区段和所述样本的表面,并且相对于所述观察区段的法线方向以67.5°以上且小于90°的角度倾斜。
2.根据权利要求1所述的样本制备装置,
其中,所述第二照射区域是用于形成与所述观察区段相邻的一对倾斜表面的照射区域。
3.根据权利要求1所述的样本制备装置,
其中,所述第二照射区域是用于形成与所述观察区段相邻的四个倾斜表面的照射区域。
4.根据权利要求1所述的样本制备装置,所述样本制备装置进一步包括:
电子束镜筒,所述电子束镜筒用于施加电子束;以及
散射电子检测器,所述散射电子检测器用于检测从被所述电子束照射的样本发射的背向散射电子。
5.根据权利要求4所述的样本制备装置,
其中,所述照射区域设置单元用于设置聚焦离子束照射区域以将电子束施加到所述观察区段。
6.根据权利要求4所述的样本制备装置,
其中,所述聚焦离子束镜筒被布置为使得所述聚焦离子束和所述电子束以直角相交叉。
7.一种样本制备方法,所述样本制备方法用于制备用于观察背向散射电子的衍射图案的样本,所述方法包括:
通过向所述样本施加聚焦离子束来形成观察区段,所述观察区段将被电子束照射以检测所述背向散射电子;以及
通过向所述样本施加所述聚焦离子束来形成倾斜表面,所述倾斜表面连接到所述观察区段和所述样本的表面,并且相对于所述观察区段的法线以67.5°以上且小于90°的角度倾斜。
8.根据权利要求7所述的样本制备方法,
其中,形成所述观察区段的步骤和形成所述倾斜表面的步骤包括从相对于所述观察区段的垂直方向向所述样本施加所述聚焦离子束。
9.根据权利要求8所述的样本制备方法,
其中,形成所述观察区段的步骤包括将第一剂量的聚焦离子束施加到所述样本,并且
形成所述倾斜表面的步骤包括施加第二剂量的聚焦离子束,随着相对于所述观察区段的距离增大,所述第二剂量变得小于所述第一剂量。
10.根据权利要求7所述的样本制备方法,
其中,形成所述观察区段的步骤和形成所述倾斜表面的步骤包括从相对于所述观察区段的法线方向和所述电子束的束轴方向的垂直方向对所述样本施加所述聚焦离子束。
11.根据权利要求10所述的样本制备方法,
其中,形成所述观察区段的步骤包括将第一剂量的聚焦离子束施加到所述样本,并且
其中,形成所述倾斜表面的步骤包括施加第二剂量的聚焦离子束,随着相对于所述观察区段的距离增大,所述第二剂量变得大于所述第一剂量。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日本株式会社日立高新技术科学,未经日本株式会社日立高新技术科学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310083008.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





